[发明专利]一种金属离子印迹复合膜的制备方法

权利要求书

1.一种金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：以市售的商品微孔滤膜为基膜，以重金属离子为模板离子，利用紫外光引发功能单体和交联剂在基膜表面聚合进行离子印迹修饰，制备得到金属离子印迹复合膜；

所述金属离子印迹复合膜的制备方法，具体包括以下步骤：

步骤1，将基膜浸入含有光引发剂的乙醇、甲醇、正己烷或正庚烷溶液中，一段时间后取出自然晾干，晾干后的基膜在N₂气氛中通过波长为365nm的紫外线照射0.5～3min，获得膜表面覆盖有光引发剂的基膜；

步骤2，以重金属离子为模板离子，向含有模板离子的金属盐中加入功能单体、交联剂混合均匀，得到反应溶液，

所述含有模板离子的金属盐、功能单体、交联剂按摩尔比为1:(1～8)：(2～50)的比值分别称取，

将反应溶液与含有光引发剂的乙醇、甲醇、正己烷或正庚烷溶液混合均匀制成均相溶液体系，然后对均相溶液体系进行超声脱气处理，

将膜表面覆盖有光引发剂的基膜浸入均相溶液体系中，置于波长为365nm的紫外光下照射4～10小时，得到金属离子印迹复合膜。

2.如权利要求1所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：所述市售的商品微孔滤膜为平板聚合物微孔滤膜或中空纤维聚合物微孔滤膜。

3.如权利要求1所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：所述市售的商品微孔滤膜为聚砜微孔滤膜、聚醚砜微孔滤膜、聚偏氟乙烯微孔滤膜、聚丙烯微孔滤膜或聚丙烯腈微孔滤膜。

4.如权利要求1所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于，步骤2得到的金属离子印迹复合膜采用以下方式洗脱去除模板离子：

将金属离子印迹复合膜浸在浓度为1.0～3.0mol/L的盐酸溶液中，在25～80℃下振荡处理4～10小时，然后用去离子水洗至中性，洗脱模板离子，真空干燥至恒重即得成品金属离子印迹复合膜。

5.如权利要求4所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于，对成品金属离子印迹复合膜采用以下方式进行性能考察：

将制备的成品金属离子印迹复合膜置于浓度为50mmol/L的单一或多元金属离子溶液中，在室温下振荡吸附达到平衡，

用火焰原子吸收分光光度计测定单一或多元金属离子溶液中剩余金属离子的浓度，根据下式计算吸附容量：

Q＝(V×(C₀-C))/A

其中：Q为平衡吸附量(mmol/cm²)，V为水样的体积(L)，C₀和C分别为吸附前后单一或多元金属离子溶液中金属离子的浓度(mmol/L)，A为成品金属离子印迹复合膜的面积(cm²)。

6.如权利要求1所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：步骤1中所述的含有光引发剂的乙醇、甲醇、正己烷或正庚烷溶液中，光引发剂的质量百分比浓度为0.2～5％，

步骤2中所述的含有光引发剂的乙醇、甲醇、正己烷或正庚烷溶液中，光引发剂的质量百分比浓度为0.1～1％。

7.如权利要求1所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：步骤1和步骤2中，所述光引发剂是指：引发剂2959、引发剂127、引发剂184、引发剂907或引发剂TPO-L。

8.如权利要求1所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：步骤1中，将基膜浸入含有光引发剂的乙醇、甲醇、正己烷或正庚烷溶液中1～6小时。

9.如权利要求1所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：步骤2中，所述重金属离子为Pb(Ⅱ)、Cd(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)、Hg(Ⅱ)、Cu(Ⅱ)、Zn(Ⅱ)中的任意一种，

所述含有模板离子的金属盐为氯化物、硫酸盐、醋酸盐、硝酸盐中的任意一种。