[发明专利]一种具有腐蚀修复功能的聚硅氧烷涂料及制备方法无效
申请号: | 201410813645.7 | 申请日: | 2014-12-24 |
公开(公告)号: | CN104592890A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 甘志宏;慕仙莲;邢新侠;王广超;邵亚薇;张颖君;王浩伟 | 申请(专利权)人: | 中国特种飞行器研究所 |
主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04;C09D5/08;C09D7/12;C08G73/02;C09C3/12;C09C3/10 |
代理公司: | 荆门市首创专利事务所 42107 | 代理人: | 董联生 |
地址: | 448001 *** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 腐蚀 修复 功能 聚硅氧烷 涂料 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及的是一种涂料,更具体地说是一种可用于铝合金、镁合金、钢铁保护的,具有腐蚀修复功能的聚硅氧烷涂料。
技术背景
2002年美国国会咨文显示,美国国防部每年用于腐蚀维护与修理的费用高达200亿美元,其中40亿用于防护涂料的维护与修理。因此美国国防部制定了ACT(Active Coatings Technologies)战略,借助纳米技术研发新一代的主动预防/减缓腐蚀的智能涂层以降低腐蚀维护成本,保障武器装备的出勤率及服役寿命,其中防腐涂料的早期微裂纹自动修复智能涂层技术受到普遍关注。申请号为1153988A2欧洲专利文件中,所涉及的是“微胶囊型防腐涂层”,所述的自修复能力通过释放微胶囊内的修复物质填充裂缝实现;申请号为1115634加拿大专利文件中,所涉及的是“一种层状耐冲击涂层材料”,通过弹性聚氨酯层压材料上过剩异氰酸根与羟基反应生成聚氨酯交联成膜实现自修复。申请号为200810211506.1的中国专利中,介绍了一种含聚氨酯结构单元的可逆修复组合物及制备方法和清漆组合物及自修复涂层材料。国内现有的防腐涂料的关注点均着重在如何提高涂层的防腐蚀性能,而对于涂层出现恶化后如何对涂层的防腐性能及涂层下金属有修复的功能却报道不多。
发明内容
本发明的目的在于提供一种不但可用于铝合金材料的保护,还可用于镁合金、钢铁保护的,同时能在出现划痕及刮伤等缺陷时实现对这些缺陷部位的修复,并在涂层使用过程中对出现防腐性能恶化的涂层及涂层下金属进行修复的具有腐蚀修复功能的聚硅氧烷涂料。本发明的目的还在于提供一种具有腐蚀修复功能的聚硅氧烷涂料的制备方法。
一种具有腐蚀修复功能的聚硅氧烷涂料,由甲、乙两种组分组成;其中甲组分重量份配比为:
有机-无机聚硅氧烷树脂 30~100
修复性复合填料 1~20
颜料 1~10
填料 20~50
消泡剂 0.1~5
分散剂 3~10
流平剂 0.1~3;
乙组分重量份配比为:
氨基硅烷5~100
溶剂0.5~30;
甲、乙两种组分重量份配比为:
甲组分2-8: 乙组分 1。
2.根据权利要求1所述的具有腐蚀修复功能的聚硅氧烷涂料联剂,其特征在于所述的修复性填料为偶联剂处理的聚苯胺改性磷酸锌与蒙脱土复合填料,所述偶联剂为硅烷偶联剂和钛酸酯偶联剂;
所述颜料为钛白粉、酞氰蓝、甲苯胺红、炭黑或氧化铁红等。
所述的填料为云母粉、硅微粉、沉淀硫酸钡、滑石粉、石英砂、碳酸钙。
所述的消泡剂、分散剂、流平剂为涂料用的助剂。
所述的氨基硅烷包括氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、二(γ-三甲氧基甲硅烷基丙基)胺、N-环己基-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β-氨乙基-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯丙基三氧基硅烷、N-β-氨乙基-γ-氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或几种。
所述的溶剂为分子量30-1000的一元醇、二元醇、三元醇、四元醇、酮类溶剂、芳烃溶剂、醚类溶剂、脂肪族酯类溶剂中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的具有腐蚀修复功能的聚硅氧烷涂料联剂,其特征在于制备方法为:
1)修复性填料的制备方法:
(a)配制磷酸和十二烷基苯磺酸混合水溶液:其中磷酸为0.01 mol/L~3 mol/L,十二烷基苯磺酸为0.1 mol/L ~3 mol/L,制得A液;
(b)配制过硫酸铵水溶液:过硫酸铵为0.05 mol/L ~5mol/L,制得B液;
(c)将苯胺加入到A液中搅拌均匀,苯胺浓度为0.05 mol/L ~5mol/L,制得C液;
(d)取C液1000ml,将磷酸锌10~500g、蒙脱土1~200g加入其中,在0~10℃搅拌均匀,制得D液;
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C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
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C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接