[发明专利]一种非均匀分布源探测效率计算及模拟装置及方法在审
申请号: | 201410816665.X | 申请日: | 2014-12-24 |
公开(公告)号: | CN104483693A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 田自宁;欧阳晓平;李雪松;张忠兵;阮金陆;宋纪文;金鹏 | 申请(专利权)人: | 西北核技术研究所 |
主分类号: | G01T1/00 | 分类号: | G01T1/00 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 王少文 |
地址: | 71002*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 均匀分布 探测 效率 计算 模拟 装置 方法 | ||
1.一种非均匀分布源探测效率计算及模拟装置,其特征在于:
包括探测器(1)、点源(2)、面源(3);
所述点源(2)在半径为R范围内不同位置处来模拟按一定概率密度函数分布的面源;
所述面源(3)的半径为R,面源模拟的厚度为H,面源放置在0~H范围内不同高度位置,来模拟按一定概率密度函数分布的体源;
所述探测器(1)位于面源(3)、点源(2)的正下方,用于实验模拟计算按一定概率密度函数分布的半径为R的面源和半径为R,厚度为H的体源的探测效率。
2.一种非均匀分布源探测效率计算方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)按下式计算放射性核素沿半径方向一定的概率密度分布时面源探测效率εd(r):
其中:
εp(r)表示均匀分布情况下点源探测效率函数,
表示核素随半径方向的概率分布密度函数,
2)按下式计算放射性核素沿厚度方向一定的概率密度分布时体源探测效率εv:
其中:
表示核素随厚度方向的概率分布密度函数;
εd(h)表示均匀分布情况面源效率函数。
3.一种非均匀分布面源探测效率模拟方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)假设核素沿面源半径方向是按一定概率密度函数分布,计算不同半径处核素分布的概率值
2)将概率值按半径最大位置处进行归一化处理,即将所有值除以该位置处的值,得到值;
3)将点源活度A乘以得到面源活度沿半径方向一定概率密度函数分布,按下经一定积分处理得到一定分布面源的平均活度浓度值,单位Bq/cm2:
4)点源在不同半径处的峰计数率f(r)乘以得到峰计数率沿半径方向一定概率密度函数分布,按下式经过一定积分处理,得到一定概率密度函数分布的面源平均峰计数率值,单位cps/cm2:
5)根据面源平均计数率、面源平均活度浓度和射线分支比利用探测效率计算公式求出探测效率。
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