[发明专利]一种二氧化硅颗粒成膜制备减反射膜的方法

权利要求书

1.一种二氧化硅颗粒成膜制备减反射膜的方法，其特征在于：包括以下步 骤：

(1)以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇为原料制备胶液A；

(2)将胶液A陈化后进行回流处理去除碱催化剂；

(3)以经回流处理后的胶液A、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水 乙醇为原料制备胶液B；

(4)将清洗洁净的玻璃基片从溶胶B中提拉镀膜并进行退火。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(1)为：将去离 子水、碱催化剂、无水乙醇进行搅拌反应2h后将正硅酸乙酯加入，搅拌1-24h 后得到二氧化硅颗粒胶液A。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(3)为：将回流 处理后的胶液A、去离子水、酸催化剂、无水乙醇进行搅拌反应2h后将正硅酸 乙酯加入，持续搅拌1-24h后得到胶液B。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述步骤(1)中正硅 酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇摩尔比为1∶(1-10)∶(0.01-1)∶(10-70)。

5.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于：所述步骤(3)中正硅 酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇摩尔比为1∶(1-10)∶(0.01-0.1)∶(10-70)。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述碱催化剂为氢氧化钾、 氢氧化钠和氨水中的一种。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述酸催化剂为醋酸、盐酸 和硝酸中的一种。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(3)中提拉速度 为5-40cm/min，退火温度范围为250℃-600℃，时间为5-60min。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述玻璃基片为平板玻璃或 管状玻璃。

10.一种根据权利要求1-9中任一项所述方法制备得到的减反射膜，其特征 在于：该减反射膜具有多孔结构，孔径大小为5-40nm。