[发明专利]记录介质

权利要求书

1.一种记录介质，其以下述顺序包括：基材；含有无机颗粒的墨接收层；和保护层，其特征在于，

所述保护层含有：

胶体二氧化硅；

气相法二氧化硅；和

选自树脂颗粒和湿法二氧化硅颗粒的至少一种颗粒，和

其中所述至少一种颗粒的平均粒径是1.5μm以上。

2.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述胶体二氧化硅的平均一次粒径是20nm以上且100nm以下。

3.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述气相法二氧化硅的平均一次粒径是3nm以上且小于20nm。

4.根据权利要求1所述的记录介质，其中包含于所述保护层的所述至少一种颗粒的干燥涂布量是0.001g/m²以上且0.05g/m²以下。

5.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述保护层中的所述胶体二氧化硅的含量以质量比率计是所述气相法二氧化硅的含量的1倍以上且19倍以下。

6.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述保护层的干燥涂布量是0.05g/m²以上且3.0g/m²以下。

7.根据权利要求1所述的记录介质，其中所述保护层进一步含有聚乙烯醇。

8.根据权利要求7所述的记录介质，其中所述保护层中，所述聚乙烯醇的含量相对于所述胶体二氧化硅和所述气相法二氧化硅的总含量是3质量％以上且40质量％以下。