[发明专利]涂胶检测方法及其装置

权利要求书

1.一种涂胶检测方法，其特征在于，包括：提供一具双轴向移动能力的涂胶头，依循一基板上的一涂胶路径进行涂胶，并通过跟随该涂胶头移动呈一直线间隔排列的多个电荷耦合元件，对该涂胶路径取像，其中所述多个电荷耦合元件跟随涂胶头的双轴向中的至少一轴向移动；该涂胶路径由四边形的轨迹围绕形成，该四边形轨迹依涂胶先后顺序包含一第一涂胶路径、一第二涂胶路径、一第三涂胶路径及一第四涂胶路径，该第三涂胶路径与第四涂胶路径之间还包含一斜线涂胶路径，所述多个电荷耦合元件移动在第三路径上方时就开始对第三涂胶路径进行取像，在涂胶头对斜线涂胶路径及第四涂胶路径涂胶过程中同步进行取像，当涂胶头沿第四涂胶路径完成涂胶过程并远离基板后，所述电荷耦合元件也同步完成对涂胶路径的动态取像。

2.根据权利要求1所述的涂胶检测方法，其特征在于：所述电荷耦合元件取像时还通过至少一发光元件提供光源。

3.一种涂胶检测装置，应用于权利要求1所述的涂胶检测方法，其特征在于，包括：

一基板；

一滑台，提供一Y向滑道，该滑台并滑设于一组相互平行的X向滑轨上；

一涂胶头，滑组于该滑台的Y向滑道上，该涂胶头经由滑台而沿X轴向及Y轴向移动，对该基板上一涂胶路径进行涂胶，该涂胶路径包含一第一涂胶路径、一第二涂胶路径、一第三涂胶路径及一第四涂胶路径，该第三涂胶路径与第四涂胶路径之间还包含一斜线涂胶路径；

其中，该滑台上固定有多个电荷耦合元件，所述多个电荷耦合元件跟随滑台沿X轴向移动，所述多个电荷耦合元件移动在第三路径上方时就开始对第三涂胶路径进行取像，在涂胶头对斜线涂胶路径及第四涂胶路径涂胶过程中同步进行取像，当涂胶头沿第四涂胶路径完成涂胶过程并远离基板后，所述电荷耦合元件也同步完成对涂胶路径的动态取像。

4.根据权利要求3所述的涂胶检测装置，其特征在于：所述多个电荷耦合元件沿Y轴向排列。

5.根据权利要求3或4所述的涂胶检测装置，其特征在于：还包含至少一发光元件，固定于所述电荷耦合元件的旁侧，对所述电荷耦合元件取像时提供光源。

6.根据权利要求3所述的涂胶检测装置，其特征在于：该第一涂胶路径与第三涂胶路径平行于Y轴向，该第二涂胶路径与第四涂胶路径平行于X轴向。