[发明专利]一种新型改进结构的工艺品支架在审

专利信息
申请号: 201410823592.7 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN105774368A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 潘国亮 申请(专利权)人: 天津正锦祥电子科技有限公司
主分类号: B44C5/00 分类号: B44C5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 301800 天津市宝坻区南三*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 改进 结构 工艺品 支架
【说明书】:

技术领域

发明属于工艺品领域,尤其涉及一种新型改进结构的工艺品支架。

背景技术

目前,市场上展销陈列盆、篮、筛、盘类的货架,大都由金属圆管制成,由于金属圆管长期暴露在空气中,经氧化生成铁锈,不仅影响产品的外观形状,而且锈蚀的金属管还影响货架的使用寿命。

因此,发明一种新型改进结构的工艺品支架显得非常必要。

发明内容

为了解决上述技术问题,本发明提供一种新型改进结构的工艺品支架,旨在解决现有的工艺品陈列易生锈,外观不美观,使用寿命短的问题。

为实现上述目的,本发明采取的技术方案为一种新型改进结构的工艺品支架,包括脚座,座板,左凹台,右凹台,前凹台,放置口,吸盘和放置装置,所述的座板设置在脚座的上部;所述的左凹台设置在座板的左侧;所述的右凹台设置在座板的右侧;所述的前凹台设置在座板的前侧;所述的放置口设置在座板的中间;所述的吸盘设置在座板的上部;所述的放置装置设置在吸盘的上部。

所述的放置装置包括上板,中板,下板,雕刻纹和装饰条,所述的上板设置在放置装置的上部;所述的中板设置在上板的下部;所述的下板设置在中板的下部;所述的雕刻纹设置在中板的四周;所述的装饰条设置在上板的四角。

所述的放置口具体采用为15*100mm的长方形通孔,有利于放置盘类工艺品,使放置架多功能化。

所述的吸盘具体采用直径为30mm的圆形塑料吸盘,所述的吸盘具体设计为4个,有利于更好的达到吸着效果,使放置架不易掉落,增加固定力,减少了制作成本。

所述的上板具体采用厚度为10mm长方形透明亚克力板,有利于更好保护工艺品,使其免受不必要的伤害,使得工艺品放置时更能凸显其效果。

所述的装饰条具体采用镀锌铜条,有利于使其具有明显色彩,保护装饰条,便于长时间使用,更好的衬托工艺品。

与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:本发明通过放置口、吸盘、上板和装饰条的设置,增加了工艺品支架的功能,稳定了支架的稳定性,使其更加凸显工艺品,更加美观、厚重,放置工艺品时和工艺品相得益彰,使其更具美感。

附图述明

图1示出了根据本发明实施例的一种新型改进结构的工艺品支架的结构示意图;

图2示出了根据本发明实施例的一种新型改进结构的工艺品支架放置装置的结构示意图。

结合附图在图上标记以下附图标记:

1-脚座,2-座板,3-左凹台,4-右凹台,5-前凹台,6-放置口,7-吸盘,8-放置装置,81-上板,82-中板,83-下板,84-雕刻纹,85-装饰条。

具体实施方式

下面将参考附图并结合实施例,来详细述明本发明。

如图1和图2所示,本新型提供了一种新型改进结构的工艺品支架,包括脚座1,座板2,左凹台3,右凹台4,前凹台5,放置口6,吸盘7和放置装置8,所述的座板2设置在脚座1的上部;所述的左凹台3设置在座板2的左侧;所述的右凹台4设置在座板2的右侧;所述的前凹台5设置在座板2的前侧;所述的放置口6设置在座板2的中间;所述的吸盘7设置在座板2的上部;所述的放置装置8设置在吸盘7的上部。

所述的放置装置7包括上板81,中板82,下板83,雕刻纹84和装饰条85,所述的上板81设置在放置装置8的上部;所述的中板82设置在上板81的下部;所述的下板83设置在中板82的下部;所述的雕刻纹84设置在中板82的四周;所述的装饰条85设置在上板81的四角。

所述的放置口6具体采用为15*100mm的长方形通孔,有利于放置盘类工艺品,使放置架多功能化。

所述的吸盘7具体采用直径为30mm的圆形塑料吸盘,所述的吸盘7具体设计为4个,有利于更好的达到吸着效果,使得放置架不易掉落,增加固定力,减少了制作成本。

所述的上板81具体采用厚度为10mm长方形透明亚克力板,有利于更好保护工艺品,使其免受不必要的伤害,使工艺品放置时更能凸显其效果。

所述的装饰条85具体采用镀锌铜条,有利于使其具有明显色彩,保护装饰条,便于长时间使用,更好的衬托工艺品。

与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:本发明通过放置口、吸盘、上板和装饰条的设置,增加了工艺品支架的功能,稳定了支架的稳定性,使其更加凸显工艺品,更加美观、厚重,放置工艺品时和工艺品相得益彰,使其更具美感。

利用本发明所述的技术方案,或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本发明的保护范围。

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