[发明专利]一种中性胶体二氧化硅的制备方法有效
| 申请号： | 201410828680.6 | 申请日： | 2014-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105778775B | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 王良咏 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 中性 胶体 二氧化硅 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种中性胶体二氧化硅的制备方法，包括：对酸性胶体二氧化硅研磨颗粒溶液进行pH中和处理，其中所使用的pH调节剂为硅酸盐，中和后所述酸性胶体二氧化硅研磨颗粒溶液的pH在4-7之间，所述硅酸盐浓度为4-20wt％；
其中，所述硅酸盐选自硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾中的一种或多种。
2.如权利要求1所述的制备方法，其中，所述胶体二氧化硅的浓度为0.00001-50wt％。
3.一种用于化学机械抛光液的研磨颗粒组合物，所述研磨颗粒组合物包括胶体二氧化硅和pH调节剂，且所述研磨颗粒组合物的pH在4-7之间，所述pH调节剂为硅酸盐，所述硅酸盐浓度为4-20wt％；其中所述硅酸盐选自硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾中的一种或多种。
4.如权利要求3 所述的研磨颗粒组合物，其中胶体二氧化硅的浓度为0.00001-50wt％。
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