[发明专利]具有晶体的聚集与流动扩散釉及其制备方法

权利要求书

1.一种具有晶体的聚集与流动扩散釉，其特征在于：它包括底釉和面釉，所述的底釉的组份和各组份质量份如下：长石：25份～35份；石英：25份～28份；骨灰：10份～15份；高岭土：3份～5份；氧化锌：5份～8份；氧化钛：3份～5份；硅酸锆：8份～10份；白云石：7份～11份；硅灰石：6份～8份；铁红12份～18份；所述的面釉的组份和各组份质量份如下：长石：23份～25份；石英：12份～15份；方解石：10份～15份；宜春洗泥6份～8份；氧化锌：12份～15份；金红石8份～13份。

2.一种如权利要求1所述的具有晶体的聚集与流动扩散釉的制备方法，其特征在于该方法的步骤如下：

a)按照各组份和各组份质量份备料：

b)底釉按底釉料︰球︰水＝1︰1.5︰0.55，湿法球磨11～13小时，球磨后的釉料过160目筛后，再调成50～65波美度的底釉浆，取外表光洁的坯体浸入该底釉浆，干燥后待用；

c)面釉按面釉料︰球︰水＝1︰1.6︰0.5，湿法球磨11～13小时，球磨后的釉料过160目筛后，再调成50～60波美度的面釉浆，将已上底釉浆的坯体喷上该面釉浆，经1280～1300℃的氧化气氛下烧制成品。