[发明专利]高稳定性ITO玻璃刻蚀系统

说明书

技术领域

 本发明涉及一种刻蚀系统，具体地涉及一种高稳定性ITO玻璃刻蚀系统。

背景技术

目前，在平板显示行业大世代线体中，如3.5代线以上， ITO玻璃在清洗工艺制程中会经过刻蚀、高低压喷淋、液切、风切等制程。在这些制程中，为了保持基板行进的稳定性，必须在基板的上表面边缘5mm范围内使用压片滚轮压住玻璃基板，且这种压力必须均匀、稳定。在目前所知的所有清洗设备中，所有设备制造商均采用固定式的压片滚轮对基板进行压紧。这种滚轮在使用前必须根据基板的厚度调出合适的间隙，而且每次间隙调整均极其耗时，且调整完毕后，受机械振动，材料蠕变等因素影响，长时间使用依然会有卡片、碎片、打滑等风险。而且现有的ITO玻璃刻蚀系统均采用喷淋式的刻蚀方式，即在基板上方设置多组摇摆喷管，该种方式在使用传统刻蚀液时效果良好，而在使用活性较强的新式刻蚀液（如HCl）时，往往产生严重的刻蚀不均现象(原因)。因此有必要在此基础上开发出具有更高性能和更高稳定性的ITO玻璃刻蚀系统。

发明内容

本发明目的是为了克服现有技术的不足而提供一种高稳定性ITO玻璃刻蚀系统。

为达到上述目的，本发明所采用的技术方案为：一种高稳定性ITO玻璃刻蚀系统，它包括相连接的刻蚀组件和水洗组件，所述刻蚀组件和所述水洗组件安装有多个分离式传动组件，所述分离式传动组件包括安装在所述刻蚀组件或所述水洗组件外的第一磁力轮、安装在所述刻蚀组件或所述水洗组件内且与所述第一磁力轮相对应的第二磁力轮、端部与所述第二磁力轮相连接的滚轴以及安装在所述滚轴上且间隔设置的滚轮以及用于带动所述第一磁力轮转动的传动机构。

优化地，所述水洗组件设置于所述刻蚀组件的下方，所述刻蚀组件通过安装在其端部的升降组件与所述水洗组件相连接。

进一步地，所述刻蚀组件和所述水洗组件内安装有设置在所述分离式传动组件上方且与其相配合的多个间隙自适应压片滚轮，所述间隙自适应压片滚轮包括：

滚轮外套，所述滚轮外套内圈设置有间隔的多个凸起；

卡套，所述卡套设置有与所述凸起相配合的多个卡齿，它通过所述卡齿卡合于所述滚轮外套的一侧；

支撑件，所述支撑件包括设置于所述滚轮外套另一侧的第一柱体以及与所述第一柱体侧面相连接且插入所述滚轮外套和所述卡套的第二柱体，所述第一柱体的直径大于所述凸起内端形成的圆形直径；

弹性件，所述弹性件放置在被所述支撑件和所述卡套围住的所述凸起之间，所述弹性件向所述滚轮外套中心轴的方向延伸。

进一步地，所述刻蚀组件包括依次相连接的预处理单元、刻蚀单元和水洗单元，所述预处理单元包括分别安装于其两端部的第一离子泵、安装在所述第一离子泵之间的紫外灯以及用于向其内导入氧气的氧气阀，所述刻蚀单元包括设置于其内部用于对ITO玻璃进行上下喷淋的多个第一喷淋管、设置于其内部并位于所述第一喷淋管上游的第一液刀以及设置于其内部并位于所述第一喷淋管下游的一组第一风刀以及用于收集刻蚀液并将再导入所述第一喷淋管和所述第一液刀中的循环机构，所述水洗单元包括设置于其内部用于对ITO玻璃进行上下喷淋的多个第二喷淋管、设置于其内部并位于所述第二喷淋管上游的第二液刀以及设置于其内部并位于所述第二喷淋管下游的第一超级液刀。

进一步地，所述第一液刀和所述第二液刀的结构相同，它们均包括相对应合盖的两块液刀板、形成于两块所述液刀板之间的第一腔体、形成于两块所述液刀板下端部的出液条缝，两块所述液刀板之间还形成有与所述第一腔体相连通的第二腔体，所述第二腔体与所述出液条缝相连通，所述第二腔体的截面为圆形或者椭圆形。

进一步地，所述刻蚀组件还包括连接于所述预处理单元和所述刻蚀单元之间的第一缓冲单元以及连接于所述刻蚀单元和所述水洗单元之间的第二缓冲单元，所述第一缓冲单元的两端分别安装有一组第二风刀，所述第二缓冲单元内设有一组第三风刀，所述第一缓冲单元在其与所述刻蚀单元的连接处以及所述第二缓冲单元在其与所述刻蚀单元的连接处设有防结晶机构。

进一步地，所述防结晶机构包括用于对应遮挡住所述刻蚀单元进料口和出料的挡板、与所述挡板相连接用于带动其转动的把手、用于盛放浸润液从而浸泡所述挡板和所述把手的浸润槽、与所述浸润槽相连通的流量计和阀门。

进一步地，所述水洗组件包括依次相连接的多个大流量水洗单元和风干单元。