[发明专利]光场采集控制方法和装置、光场采集设备

权利要求书

1.一种光场采集控制方法，其特征在于，包括：

获取光场相机的主透镜光圈参数；

根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图像传感器中与所述光场相机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一成像区域；

调整所述图像传感器的像素密度分布，以使调整后所述第一成像区域的像素密度异于所述成像区域的其他部分，其中，确定的一第一成像区域为与一子透镜对应一成像区域中参与到光场采集的有效部分，通过调整图像传感器的像素密度分布，使得所述第一成像区域的平均像素密度大于所述第二成像区域的平均像素密度；或者，确定的一第一成像区域为与一子透镜对应一成像区域中没有参与到光场采集的其他部分成像区域，通过调整图像传感器的像素密度分布，使得所述第一成像区域的平均像素密度小于所述第二成像区域的平均像素密度；

经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，获取所述主透镜光圈参数之前，还包括：

调整所述主透镜光圈参数。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，调整所述主透镜光圈参数包括：

根据所述光场相机的子透镜光圈参数确定主透镜光圈参数调整范围；

根据所述主透镜光圈参数调整范围调整所述主透镜光圈参数。

4.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，确定所述第一成像区域，包括：

获取所述主透镜和所述子透镜阵列之间的第一距离以及所述子透镜阵列与所述图像传感器之间的第二距离；

根据所述主透镜光圈参数、所述第一距离和所述第二距离，确定成像区域弥散圆信息；

确定所述至少一子透镜对应的成像区域中与所述成像区域弥散圆信息对应的局部为所述第一成像区域。

5.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，还包括：根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的重对焦能力范围。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，获取所述重对焦能力范围之后，还包括：

获取所述待摄场景的预览图像的像素点在深度方向的分布信息；

显示所述分布信息与所述重对焦能力范围的对应关系。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，获取所述重对焦能力范围之后，还包括：

获取所述待摄场景的期望对焦深度范围信息；

根据所述重对焦能力信息和所述期望对焦深度范围信息对所述光场相机进行对焦处理。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，获取所述期望对焦深度范围信息，包括：

经所述预览图像获取至少二个不同深度的期望对焦点；

根据所述至少二个不同深度的期望对焦点确定所述期望对焦深度范围信息。

9.一种光场采集控制装置，其特征在于，包括：

一主透镜光圈参数获取模块，用于获取光场相机的主透镜光圈参数；

一第一成像区域确定模块，用于根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图像传感器中与所述光场相机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一成像区域；

一像素密度分布调整模块，用于调整所述图像传感器的像素密度分布，以使调整后所述第一成像区域的像素密度异于所述成像区域的其他部分，其中，确定的一第一成像区域为与一子透镜对应一成像区域中参与到光场采集的有效部分，通过调整图像传感器的像素密度分布，使得所述第一成像区域的平均像素密度大于所述第二成像区域的平均像素密度；或者，确定的一第一成像区域为与一子透镜对应一成像区域中没有参与到光场采集的其他部分成像区域，通过调整图像传感器的像素密度分布，使得所述第一成像区域的平均像素密度小于所述第二成像区域的平均像素密度；

一光场采集控制模块，用于经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。