[发明专利]一种蓝宝石抛光废液的再使用方法在审
| 申请号： | 201410831534.9 | 申请日： | 2014-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105778776A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 王雨春;王良咏;戴程隆 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 抛光 废液 使用方法 | ||
1.一种抛光高k金属栅的方法，其特征在于，所述用于抛光高k金属栅 的抛光液为使用抛光时间超过1小时的蓝宝石抛光废液，所述蓝宝石抛光废 液中包含二氧化硅研磨颗粒，所述二氧化硅研磨颗粒的粒径在1nm-1000nm 之间，所述蓝宝石抛光废液的pH值为在9-11之间。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述蓝宝石抛光废液在对高k金属 栅进行抛光前，通过滤芯进行过滤纯化。
3.如权利要求1所述的方法，其中所述用于抛光高k金属栅的抛光液中 不含有第三主族金属研磨颗粒。
4.如权利要求1所述的方法，其中，所述二氧化硅研磨颗粒的浓度为 0.00001-50wt％。
5.如权利要求1所述的方法，其中所述于抛光高k金属栅的抛光液含有 氧化剂，螯合剂以及阳离子表面活性剂。
6.如权利要求5所述的方法，其中，所述氧化剂选自双氧水、过硫酸铵、 硝酸铁中的一种或多种。
7.如权利要求5所述的方法，其中，所述氧化剂浓度在0-5wt％之间。
8.如权利要求5所述的方法，其中，所述螯合剂选自EDTA及多元羧 酸、多元磷酸中的一种或多种。
9.如权利要求5所述的方法，其中，所述螯合剂浓度在0-5wt％之间。
10.如权利要求5所述的方法，其中，所述阳离子表面活性剂为季铵型 表面活性剂。
11.如权利要求10所述的方法，其中，所述季铵型表面活性剂选自十二 烷基三甲基溴化铵、十二烷基二甲基苄基溴化铵、十四烷基三甲基溴化铵、 十六烷基三甲基溴化铵、十八烷基三甲基溴化铵和四丁基氯化铵中的任意一 种或几种。
12.如权利要求5所述的方法，其中，所述阳离子表面活性剂浓度在 0-1wt％之间。
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