[发明专利]一种蓝宝石抛光废液的再处理方法在审
| 申请号： | 201410831543.8 | 申请日： | 2014-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105778777A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 王良咏;王雨春;戴程隆 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 抛光 废液 处理 方法 | ||
1.一种蓝宝石抛光废液的再处理方法，其中该蓝宝石抛光废液中包括胶体 二氧化硅研磨颗粒，所述再处理方法包括：
将所述蓝宝石抛光废液进行湿法刻蚀；
将蚀刻后的所述蓝宝石抛光废液的pH值重新调节至蓝宝石抛光液初始 值。
2.如权利要求1所述的再处理方法，其中，所述再处理方法进一步包括对 湿法蚀刻后的所述蓝宝石抛光废液使用阳离子交换树脂进行纯化。
3.如权利要求1所述的再处理方法，其中，所述湿法刻蚀包括使用0.1M浓 度以上无机和/或有机强酸，将蓝宝石抛光废液pH值调节至4以下，并搅拌 5min以上。
4.如权利要求2所述的再处理方法，其中，所述无机强酸包括硫酸、磷酸、 盐酸、氢氟酸、硝酸，所述有机强酸包括乙酸、草酸、酒石酸、柠檬酸。
5.如权利要求1所述的再处理方法，其中，pH值的所述初始值为9-11。
6.如权利要求1所述的再处理方法，其中，适合用于调节蚀刻后所述蓝宝 石抛光废液pH值的酸包括硝酸、硫酸和盐酸及有机酸，适合用于调节蚀刻 后所述蓝宝石抛光废液pH值的碱包括氨水、氢氧化钠、氢氧化钾及有机碱。
7.如权利要求6所述的再处理方法，其中，所述有机酸为柠檬酸、酒石酸、 草酸，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、哌嗪、乙醇胺。
8.如权利要求1所述的再处理方法，其中，所述胶体二氧化硅研磨颗粒的 浓度为0.00001-50wt％。
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