[发明专利]一种钕铁硼永磁体化学膜厚度的确定方法有效
| 申请号： | 201410833570.9 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105806230B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 白晓刚;姜丽;潘广麾 | 申请（专利权）人： | 天津三环乐喜新材料有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B15/02 |
| 代理公司： | 11042 北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 付晓青;李广文 |
| 地址： | 300457 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 钕铁硼 永磁体 化学 沉积 保护膜 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津三环乐喜新材料有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司，未经天津三环乐喜新材料有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410833570.9/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：可调节单体光源照射角度的无影手术灯
- 下一篇：一种手术缝针的吸针板
