[发明专利]一种反射电极及其制备方法和应用有效
申请号: | 201410835451.7 | 申请日: | 2014-12-26 |
公开(公告)号: | CN104466025B | 公开(公告)日: | 2017-10-10 |
发明(设计)人: | 刘嵩;王禹 | 申请(专利权)人: | 北京维信诺科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 | 代理人: | 彭秀丽 |
地址: | 100085 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 电极 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种反射电极,包括依次堆叠设置在衬底上的第一导电层、导电反射层和第二导电层,其特征在于,所述导电反射层与第二导电层在所述第一导电层所在平面上的投影在所述第一导电层的范围内;所述第一导电层和/或第二导电层为透明导电层;
所述的一种反射电极的制备方法,包括如下步骤:
在衬底的垂直方向上依次形成由第一导电层材料制得的膜层、由导电反射层材料制得的膜层以及由第二导电层材料制得的膜层;
在由第二导电层材料制得的膜层上形成第一光刻胶层,采用湿法刻蚀工艺对由第二导电层材料制得的膜层、由导电反射层材料制得的膜层进行图案化,得到第二导电层和导电反射层;
在由第一导电层材料制得的膜层上形成覆盖第一导电层和导电反射层的第二光刻胶层,第二光刻胶层包覆第一导电层和导电反射层的侧边,且第二光刻胶层的侧边与第一导电层形成角度为α的倾角;
采用湿法刻蚀工艺对由第一导电层材料制得的膜层进行图案化,得到第一导电层,导电反射层与所述第一导电层相邻侧边的垂直间距大于L,
2.根据权利要求1所述的一种反射电极,其特征在于,所述第二导电层和/或所述第一导电层的功函数为4.5~5.5eV;所述第一导电层和所述第二导电层分别独立选自铟、锡、锌、铝中至少一种形成的导电氧化物层或者镍、金、铂及其合金中的一种或多种所形成的导电层。
3.根据权利要求1或2所述的一种反射电极,其特征在于,所述导电反射层为银、铝及其合金中的一种或多种形成的一层或多层堆叠结构。
4.根据权利要求3所述的一种反射电极,其特征在于,所述第一导电层的厚度为所述第二导电层的厚度为所述导电反射层的厚度为
5.根据权利要求1所述的一种反射电极,其特征在于,形成所述由第一导电层材料制得的膜层的方法包括旋转涂布、化学气相沉积、喷雾热分解或溅射。
6.根据权利要求1所述的一种反射电极,其特征在于,形成所述由导电反射层材料制得的膜层的方法包括蒸镀或溅射。
7.根据权利要求1所述的一种反射电极,其特征在于,形成所述由第二导电层材料制得的膜层的方法包括溶胶凝胶、化学气相沉积、喷雾热分解或溅射。
8.一种有机发光二极管,其特征在于,包括权利要求1-7任一所述的一种反射电极。
9.一种有机发光显示装置,其特征在于,包括权利要求1-7任一所述的一种反射电极。
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