[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置在审
申请号: | 201410836490.9 | 申请日: | 2015-08-04 |
公开(公告)号: | CN104503164A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 张新彦;席克瑞;汪梅林 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 刘松 |
地址: | 201201 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
一般液晶显示器的像素结构中,必须配置存储电容来储存像素数据至下次更新的时间。如图1所示为现有技术中像素结构示意图,该像素结构包括透光区域101和遮光区域102,遮光区域102是由走线及存储电容极板等形成的不透明区域。由于存储电容极板通常是两层不透光的金属层,因此所述存储电容的配置使得像素结构中透光区域101的面积减小,进而导致面板的开口率降低。
对于现有的一种全反射显示器,在用作电子标签时,由于通常进行静态显示,不需要高速刷新,因此,一般需要采用较低的驱动频率,如20Hz、1Hz等,同时,为了确保像素电位保持在所设定的电压上,一般采取增大像素结构中的存储电容的方法来保持电位。通常情况下,为增大存储电容将会增大两金属层的面积,进而使得不透光区的面积增大,导致面板的开口率更低,严重影响产品的显示效果。此外,如图2所示为现有技术中显示区的显示状态示意图,黑色区域为遮光区域,白色区域为透光区域,由于存储电容极板的面积较大,造成不透光区域较为集中,使得显示区有明显的格子感,降低用户的视觉感受。
发明内容
本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置,用以解决现有技术中显示区域具有明显格子感的技术问题。
本发明实施例提供的一种阵列基板,包括:
本发明实施例提供的一种阵列基板,包括:
衬底,所述衬底上设置有多条扫描线与数据线;多条所述扫描线和数据线交叉限定多个像素结构;
屏蔽电极,位于所述像素结构的至少一侧边缘且与所述扫描线位于同一层;
存储电容的下极板,所述存储电容的下极板与所述扫描线位于同一层,且所述存储电容的下极板至少复用部分所述屏蔽电极;
第一绝缘层,覆盖所述存储电容下极板所在的层;
存储电容的上极板,设置在所述第一绝缘层上,并与所述数据线位于同一层;
所述存储电容的上极板至少具有与所述存储电容的下极板重叠的部分;
所述存储电容的上极板与所述存储电容的下极板重叠的部分将所述像素结构分割成至少两个透光区。
本发明实施例提供一种显示装置,包括上述权利要求中所述的阵列基板,和与所述阵列基板相对设置的对向基板。
本发明实施例提供一种阵列基板的制作方法,包括:
提供一衬底;
在所述衬底上形成扫描线、屏蔽电极与存储电容的下极板,所述存储电容的下极板、屏蔽电极以及扫描线位于同一层,且所述存储电容的下极板至少复用部分所述屏蔽电极;
形成第一绝缘层,覆盖所述存储电容的下极板所在的层;
在所述第一绝缘层上形成存储电容的上极板以及数据线,所述存储电容的上极板与所述数据线位于同一层;
所述扫描线与所述数据线交叉限定多个像素结构;
所述存储电容的上极板至少具有与所述存储电容的下极板重叠的部分;所述存储电容的上极板与所述存储电容的下极板重叠的部分将所述像素结构分割成至少两个透光区。
本发明实施例提供一种阵列基板,该阵列基板的衬底上有多个像素结构;屏蔽电极、存储电容的下极板与扫描线位于同一层存储电容的下极板复用部分屏蔽电极;第一绝缘层覆盖存储电容下极板所在的层;存储电容的上极板设置在所述第一绝缘层上,并与数据线位于同一层,存储电容的上极板至少具有与所述存储电容的下极板重叠的部分,该重叠的部分将像素结构分割成至少两个透光区。本发明实施例通过对将存储电容的形状进行改变,将透光区分割成至少两个透光区,分散了不透光区,从而有效避免了由于大面积的不透光区而导致的格子感问题。
附图说明
图1为现有技术中像素结构示意图;
图2为现有技术中显示区的显示状态示意图;
图3为本发明实施例提供的阵列基板上的一个像素结构示意图;
图4为图3中沿AA’截面的剖视结构示意图;
图5为本发明实施例提供的阵列基板显示区的显示状态示意图;
图6为本发明实施例提供的一种显示装置示意图;
图7为本发明实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程示意图;
图8为本发明实施例提供的阵列基板的制作方法具体流程图;
图9为本发明实施例第一图案化金属层示意图;
图10为本发明实施例形成第二图案化金属层的像素结构示意图;
图11为本发明实施例第二图案化金属层示意图。
具体实施方式
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