[发明专利]一种用于抛光的多路径融合方法

说明书

技术领域

本发明属于光学加工技术领域，具体涉及一种用于抛光的多路径融合方法。

背景技术

在光学加工中，通常机床带动抛光模沿一定的路径来对光学元件表面进行加工。目前常用的加工路径有螺旋路径、光栅扫描路径、同心路径以及在此基础上衍生的其他路径等。但是每种路径都有其各自的优缺点，如螺旋路径加工效率较高，但是在中心容易产生奇点，给后续的加工带来困难；而光栅扫描路径则在整个表面范围内加工较均匀，但是加工效率较低。这样就产生了多种路径相结合使用的需求。然而，简单的路径结合效果并不能让人满意，如中心区域使用一种路径，而边缘区域使用另一种路径，则由于两种路径本身的差别，在路径的结合区域会产生比较明显的结合痕迹，而这种结合痕迹在频段上往往属于中频范围，在后续加工中难以完全去除。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于抛光的多路径融合方法，解决现有技术多路径结合痕迹难以完全去除，加工表面不均匀的技术问题。

本发明一种用于抛光的多路径融合方法，具体步骤如下：

步骤1：确定多路径中任意两条相邻路径P和路径Q的边界线；

步骤2：将两条相邻路径P和路径Q的临界线进行扩充，扩充的宽度为H，扩充后的边界线分别为边界线A和边界线B，边界线A在路径P的区域内，边界线B在路径Q的区域内；

步骤3：将扩充后的边界线A和边界线B之间的面形进行分割，在路径P的区域这侧的面形为M，在路径Q的区域这侧的面形为N；

步骤4：将面形M与路径P所在区域的面形合并，得到路径P所在区域的总面形α；将面形N与路径Q所在区域的面形合并，得到路径Q所在区域的总面形β；

步骤5：在合并后的面形区域内重新生成路径P和路径Q，路径P延拓至边界线B处，路径Q延拓至边界线A处；

步骤6：根据重新生成的路径P以及路径P所在区域的总面形α,计算在路径P中驻留点的驻留时间；根据重新生成的路径Q以及路径Q所在区域的总面形β,计算在路径Q中驻留点的驻留时间；

步骤7：根据在路径P和在路径Q中驻留点的驻留时间，控制机床分别沿重新生成的路径P和路径Q运动，以修正元件的面形误差；

步骤8：检测修正后的元件的面形误差，重复步骤1至步骤7，直到元件面形误差满足加工要求；

对多路径中的任意两相邻路径的融合重复步骤1至步骤8。

所述多路径中任意两相邻路径的面形分割通过如下方法进行分割：

F(l)=F(A)exp(-l22σ2)]]>

其中，l为在边界线A和边界线B之间的任意一点到边界线A的距离；F(l)为距离边界线A为l的点处的分割后的面形值；F(A)为A边界处的面形值；σ为分割参数。

本发明的有益技术效果：本发明能够使不同路径在结合处产生的结合痕迹分界更加模糊，最终的加工表面更加均匀，从而能够更好的利用不同路径的优点。

附图说明

图1为本发明一种用于抛光的多路径融合方法的示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步阐述。

参见附图1，本发明一种用于抛光的多路径融合方法，具体步骤如下：

步骤1：确定多路径中相邻两条路径P和路径Q的边界线；

步骤2：将相邻两路径P和路径Q的边界线宽度扩充为H宽度，扩充后的边界线分别为边界线A和边界线B；

步骤3：将扩充后的边界线A和边界线B之间的面形进行分割，设下方的面形为M，上方的面形为N；

步骤4：将面形M与路径P所在区域的面形合并，得到路径P所在区域的总面形α；将面形N与路径Q所在区域的面形合并，得到路径Q所在区域的总面形β；

步骤5：在合并后的面形区域内重新生成路径P和路径Q，路径P延拓至边界线B处，路径Q延拓至边界线A处；