[发明专利]射线过滤装置和双能X射线检查系统

说明书

技术领域

本发明涉及(固定或移动式)辐射扫描成像检测领域，特别是射线过滤装置以及用于例如集装箱的双能X射线检测系统。

背景技术

在目前集装箱检测系统中，所用X射线由单一能量升级到高低双能量射线，根据其穿透特性的区别，在备检物的识别上更是有了一个飞跃式的发展。

双能X射线的高能挡射线有时需要将能量低的成分过滤掉，以提高成像的质量。所以需要特定的机构交替选择不同能量的X射线，即在例如高能的状态下过滤掉中低能量的射线成分，而在另一状态下允许低能X射线发射。由于用于扫描系统的X射线区域宽度只有2～3mm，这样的机构必须紧凑，所占空间必须小，才能在不增加检查系统的总的体积，或可以在原有的检查系统中直接加入而无需改变其他部件的设置。

发明内容

鉴于此，本发明的目的在于解决上述问题，同时提供了一种结构紧凑小巧、性能可靠的机械结构实现X射线能量的选择。

本发明的第一方面，提供一种射线过滤装置，用于能够发射高能量X射线和低能量X射线的双能X射线检测系统，所述射线过滤装置设置X射线源的射出射线的方向前面，并且所述射线过滤装置能够在允许高能量X射线和低能量X射线通过的第一状态和仅允许高能量X射线通过的第二状态之间切换。

本发明的第一方面，提供一种双能X射线检测系统，包括：双能X射线源，用以发射双能X射线；和如上述权利要求中任一项所述的射线过滤装置。

附图说明

图1示出根据本发明的射线过滤装置以及沿A-A线的剖面图，其中高、低能X射线都能通过；

图2示出根据本发明的射线过滤装置以及沿A-A线的剖面图，其中仅高能X射线都能通过。

图3示出根据本发明的射线过滤装置的一种实施方式以及沿A-A线的剖面图，其中给出若干部件的具体尺寸。

具体实施方式

现在对本发明的实施例提供详细参考，其范例在附图中说明，图中相同的数字全部代表相同的元件。为解释本发明下述实施例将参考附图被描述。

根据本发明的一个实施例，如图1和2所示，射线过滤装置10可以用于能够发射高能量X射线和低能量X射线的双能X射线检测系统。在双能X射线检测系统中，包括双能X射线源，能够发射具有高能量的X射线和具有低能量的X射线。射线过滤装置10设置在X射线源前面以便在特定状态下过滤不想要的X射线实现选择X射线能量的目的。具体地，射线过滤装置10能够在允许高能量X射线和低能量X射线通过的第一状态和只允许高能量X射线通过的第二状态之间切换。

根据本发明的一个实施例，射线过滤装置10包括：具有第一狭缝开口1的射线过滤主体2，X射线可以通过射线过滤主体2的第一狭缝开口1射出；和，屏蔽件3，所述屏蔽件3沿垂直于射线出射方向的方向活动地设置在射线过滤主体2中并横穿第一狭缝开口1。

根据本发明的实施例，第一狭缝开口1是细长的狭缝开口，其横截面可以呈如图所示的喇叭开口状态，而其宽度与扫描系统的X射线宽度对应，通常只有2～3mm。宽度的尺寸根据实际需要进行确定。射线过滤主体2中具有孔，屏蔽件3插入到该孔内。屏蔽件3与孔的尺寸要求并不严格，即屏蔽件3能够防止在孔内，并且屏蔽件能够转动即可。优选地，屏蔽件3与孔的尺寸基本上相配。该孔贯穿第一狭缝开口1，使得屏蔽件3插入到该孔中时屏蔽件3的一部分正好面对整个第一狭缝开口1。换句话说，如果屏蔽件3是实心部件，则屏蔽件3插入到该孔之后将该第一狭缝开口1完全堵塞。

根据本发明的实施例，屏蔽件3包括第二狭缝开口6，所述屏蔽件3布置在射线过滤主体2内的孔中，屏蔽件3可以转动。通过屏蔽件3转动射线过滤装置10可以在第一状态和第二状态之间选择。具体地，在第一状态下第二狭缝开口6与第一狭缝开口1对齐，这样第一狭缝开口1没有被阻挡，第一狭缝开口1形成X射线能够通过的通道，此时高能量X射线和低能量X射线可以通过第一狭缝开口1。当屏蔽件3转动，即射线过滤装置10处于与第一状态不同的第二状态，第二狭缝开口6与第一狭缝开口1错开，这样屏蔽件3的实体部分将第一狭缝开口1阻塞，低能X射线被屏蔽件3堵塞不能通过第一狭缝狭口1出射。然而，根据本发明的实施例，由于屏蔽件3的结构设置，低能X射线被屏蔽件3遮挡的同时，高能X射线由于具有高的穿透性仍然能够从屏蔽件3的第二狭缝开口6的有限厚度的侧壁穿透发射。由此，在第二状态下，双能X射线检测系统仅发射一种能量的X射线，实现清晰的检测图像。