[发明专利]一种高亮镭射箱包膜、高亮镭射箱包及其制造方法

权利要求书

1.一种高亮镭射箱包膜，其特征在于，所述高亮镭射箱包膜包括两侧经电晕处理形成电晕层的PC薄膜，PC薄膜的一侧表面设有具有压印图案的固化涂层；固化涂层的表面形成有金属蒸镀层，金属蒸镀层表面涂布有用于与塑料箱体表面粘合用的粘合层，粘合层的表面贴合有可撕保护膜。

2.一种高亮镭射箱包膜的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）PC薄膜生产

将PC颗粒材料干燥、挤出后送入PC薄膜压延机中压延得PC薄膜，对所得PC薄膜进行在线双面电晕处理，所述PC薄膜压延机成型温度250~270℃，压力2.5~3.0MPa；

2）PC薄膜涂布

将在线电晕处理后的PC薄膜送入PC薄膜涂布机，在所述PC薄膜表面涂覆水性涂料，涂布量15~20g/m²，涂布烘箱温度80~100℃，单面涂布，形成固化涂层；

3）压印

将涂覆水性涂层后的膜材送入光学膜模压机，在所述水性涂层压印出图案，所述光学膜模压机的放卷轴和收卷轴的张力为18~20kgf，压印温度100~120℃，速度25~30m/min；

4）镀金属层

采用多用途蒸镀机，在压印有图案的膜材表面镀金属层，形成金属蒸镀层，所述金属为铟铝合金，所述铟铝合金中铟含量为15~20%，蒸镀温度550~600℃；

5）涂布粘合层

将镀完金属层的膜材送入涂布机，涂布粘合层涂布量控制在15~20g/m²，所述粘合层为耐高温胶层；

6）将涂布完粘合层的膜材贴可撕保护膜，得成品高亮镭射箱包膜。

3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述步骤1)中，所述PC薄膜压延机为光学用PC薄膜压延机。

4.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述在线电晕处理中，所述PC薄膜的电晕值≥45 dyn。

5.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述步骤2)中，所述水性涂料的耐温度为100~130℃，表面硬度HB-1H。

6.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述步骤3)中，所述图案为光柱镭射图案。

7.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述步骤5)中，所述耐高温胶层为热熔胶，热熔胶的熔点为100~110℃。

8.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所得成品高亮镭射箱包膜的延展度为45%～55%。

9.一种高亮镭射箱包，其特征在于，所述高亮镭射箱包由权利要求1所述的高亮镭射箱包膜撕去可撕保护膜后粘合于ABS塑料板的外表面、吸塑成其箱体。

10.一种高亮镭射箱包的制造方法，其特征在于，该制造方法不仅包括权利要求2至8任意一项所述的高亮镭射箱包膜的制造方法中所述的步骤，还包括步骤：

S1*) 将所述成品高亮镭射箱包膜撕去所述可撕保护膜，与ABS塑料板表面热贴合；

S2*) 将热贴合后的ABS塑料板经过吸塑成箱体，经裁切，配件安装，得成品箱包。