[发明专利]一种钌配合物单分子膜和在HOPG上制备钌配合物单分子膜的方法在审
申请号: | 201410839774.3 | 申请日: | 2014-12-30 |
公开(公告)号: | CN104576071A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 王华;杨丽;李孔斋;魏永刚;祝星 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | H01G9/20 | 分类号: | H01G9/20;C04B41/46 |
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地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 配合 分子 hopg 制备 方法 | ||
1.一种钌配合物单分子膜,其特征在于:该钌配合物单分子膜中钌配合物中的芘基与具有π-电子环境的HOPG通过π-π相互作用,将钌配合物分子的两个芘基固定在HOPG界面,该钌配合物[Ru(Py4G2MeBip2)](PF6)2的化学通式如下:
。
2.一种利用旋涂法在HOPG上制备根据权利要求1所述的钌配合物单分子膜的方法,其特征在于具体步骤如下:
步骤1、首先将钌配合物[Ru(Py4G2MeBip2)](PF6)2溶解在四氢呋喃溶液中,制得50uM的钌配合物溶液;
步骤2、HOPG的表面处理:将胶带按压在HOPG表面上,然后剥离,得到新的光滑导电表面;
步骤3、将经步骤2表面处理后的HOPG基片固定在旋凃仪上,在HOPG基片表面滴加步骤1制备得到的钌配合物溶液,启动旋涂仪,使钌配合物均匀铺展成膜,室温放置使其自然干燥,取下HOPG基片,用四氢呋喃洗净后惰性气体吹干,即能制备得到钌配合物单分子膜,该经钌配合物单分子膜修饰的HOPG作为阳极。
3.根据权利要求2所述的利用旋涂法在HOPG上制备钌配合物单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤3中旋涂仪低速启动阶段旋转速率为150~200rpm,时间为3~5s,高速旋转速率为700~1000rpm,时间为70~120s。
4.一种利用浸渍法在HOPG上制备根据权利要求1所述的钌配合物单分子膜的方法,其特征在于具体步骤如下:
步骤1、钌配合物溶液的配制:将钌配合物[Ru(Py4G2MeBip2)](PF6)2溶解在二氯甲烷溶液中,制得50uM的钌配合物溶液;
步骤2、HOPG的表面处理:将胶带按压在HOPG表面上,然后剥离,得到新的光滑导电表面;
步骤3、HOPG基底上定向组装:将经步骤2表面处理的HOPG浸没于步骤1配置得到的钌配合物溶液中,轻微震荡除去气泡,在室温下浸渍后取出HOPG基底,用二氯甲烷清洗干净后惰性气体吹干,即能制备得到钌配合物单分子膜,该经钌配合物单分子膜修饰的HOPG作为阳极。
5.根据权利要求4所述的利用浸渍法在HOPG上制备钌配合物单分子膜的方法,其特征在于:所述步骤3中浸渍时间为10~24h。
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