[发明专利]发光键盘及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410840165.X 申请日: 2014-12-30
公开(公告)号: CN104598038A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 刘信鸿;廖本辉 申请(专利权)人: 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司
主分类号: G06F3/02 分类号: G06F3/02;H01H13/83;H01H13/88
代理公司: 代理人:
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 键盘 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种发光键盘,其特征在于,该发光键盘包括:

键盘底板;

透光键帽,隔开地设置于该键盘底板上,该透光键帽与该键盘底板的隔开空间中具有朝向该透光键帽周围区域的第一透光通道;

光源,该光源射出朝该透光键帽投射的第一光线及朝该第一透光通道投射的第二光线;

透明板,设置于该光源与该透光键帽之间,该透明板具有透光区域,以供该第一光线与该第二光线穿透,该透光区域位于该透光键帽在该透明板上的垂直投影区域内,且该透光区域具有第一边界;以及

多个突出墙,设于该透光区域内,每一突出墙具有第一墙体,该多个突出墙的所有第一墙体相互平行且邻近于该第一边界,相邻的突出墙隔开设置而形成第二透光通道;

其中,该第二光线在朝该第一透光通道投射时藉由该第一墙体而被衰减强度,该第一光线藉由该第二透光通道不交会该第一墙体而抵达该透光键帽。

2.如权利要求1所述的发光键盘,其特征在于,该多个突出墙突出于该透明板的上表面或下表面。

3.一种用于制造如权利要求1所述的发光键盘的制造方法,该制造方法包括下列步骤:

在该透明板上涂布一层UV胶;以及

依序对该UV胶进行拓印与固化处理,藉以在该透明板上形成该多个突出墙。

4.一种发光键盘,其特征在于,该发光键盘包括:

键盘底板;

透光键帽,隔开地设置于该键盘底板上,该透光键帽与该键盘底板的隔开空间中具有朝向该透光键帽周围区域的第一透光通道;

平面光源,该平面光源射出朝该透光键帽投射的第一光线及朝该第一透光通道投射的第二光线;

透明板,设置于该平面光源与该透光键帽之间,该透明板具有透光区域,以供该第一光线与该第二光线穿透,该透光区域位于该透光键帽在该透明板上的垂直投影区域内,且该透光区域具有第一边界;以及

多个突出墙,设于该平面光源上,且位于该透光区域的正下方,每一突出墙具有第一墙体,该多个突出墙的所有第一墙体相互平行且邻近于该第一边界,相邻的突出墙隔开设置而形成第二透光通道;

其中,该第二光线在朝该第一透光通道投射时藉由该第一墙体而被衰减强度,该第一光线藉由该第二透光通道不交会该第一墙体而抵达该透光键帽。

5.如权利要求4所述的发光键盘,其特征在于,该平面光源更具有透光棱镜,该透光棱镜位于该第二透光通道中,使通过该透光棱镜的光线朝该透光键帽的键帽图案的方向投射。

6.一种用于制造如权利要求4所述的发光键盘的制造方法,该制造方法包括下列步骤:

在该平面光源上涂布一层UV胶;以及

依序对该UV胶进行拓印与固化处理,藉以在该平面光源上形成该多个突出墙。

7.如权利要求1或4所述的发光键盘,其特征在于,该发光键盘更具有键盘框架,该键盘框架具有容置孔,该键盘框架用以容置该透光键帽以使该透光键帽在该容置孔中运动,该透光键帽与该键盘框架之间形成有活动间隙,该第二光线部分穿过该活动间隙而向该透光键帽周围区域射出。

8.如权利要求1或4所述的发光键盘,其特征在于,该多个突出墙具有第一颜色,以使穿过该多个突出墙的该第二光线具有第一颜色。

9.如权利要求8所述的发光键盘,其特征在于,该多个突出墙由UV胶制成。

10.如权利要求1或4所述的发光键盘,其特征在于,每一突出墙的高度尺寸为10μm至50μm。

11.如权利要求1或4所述的发光键盘,其特征在于,相邻的突出墙的间距为10μm至50μm。

12.如权利要求1或4所述的发光键盘,其特征在于,相邻的突出墙具有相对的倾斜侧坡面,使每一突出墙的截面宽度由下而上逐渐缩小。

13.如权利要求1或4所述的发光键盘,其特征在于,每一突出墙还具有第二墙体,该第二墙体延伸方向垂直于该第一墙体延伸方向,该第一墙体具有第一端点,该第一墙体与该第二墙体相交于该第一端点,藉由该第一墙体与该第二墙体的相交,使得每一突出墙整体形成L字形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司;,未经苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410840165.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top