[发明专利]一种掺杂金属的SiC基旋转靶材及其制造方法

权利要求书

1.一种掺杂金属的SiC基旋转靶材，其特征在于：以质量百分比计，该靶材包括80-99.5％的SiC和0.5-20％的掺杂金属，其中所述掺杂金属包括Ti、Al、Cr、Ni、Cu、Ag、Sn和Zn中的一种或几种。

2.一种如权利要求1所述的掺杂金属的SiC基旋转靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

掺杂金属的SiC喷涂粉的制备；

喷涂基体的处理；

喷涂打底层；

采用等离子喷涂工艺在喷涂基体上喷涂掺杂金属的SiC基涂层。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述掺杂金属的SiC喷涂粉的制备包括：将80-99.5wt％的SiC粉末和0.5-20wt％的掺杂金属粉末混合，在1700-1950℃下氢气气氛中烧结6-10小时，然后破碎得到100-400目的喷涂粉末，其中所述掺杂金属包括Ti、Al、Cr、Ni、Cu、Ag、Sn和Zn中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述SiC粉末的纯度不低于99.95wt％，所述SiC粉末的粒径为1-5um；所述掺杂金属粉末的纯度不低于99.5wt％，所述掺杂金属粉末的粒度在-400目以下。

5.按照权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述喷涂基体的处理包括：清洗、打磨去除所述喷涂基体表面的油渍和氧化层，然后采用喷砂粗化所述喷涂基体的表面。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述喷涂打底层是在所述喷涂基体表面喷涂0.1-0.3mm的合金涂层。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：所述喷涂合金涂层是采用等离子喷涂法喷涂镍包铝、镍铬、镍铬铝或镍铬铝钇粉末，或采用电弧法喷涂铝青铜或镍铝合金丝。

8.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述采用等离子喷涂工艺在喷涂基体上喷涂掺杂金属的SiC基涂层的过程中，所述喷涂基体的转速为30-80r/min，喷枪与所述喷涂基体间的距离为120-200mm，喷枪的移动速度为300-800mm/min。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于：所述采用等离子喷涂工艺在喷涂基体上喷涂掺杂金属的SiC基涂层的过程中，所述喷涂基体内通水冷却。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于：所述采用等离子喷涂工艺在喷涂基体上喷涂掺杂金属的SiC基涂层的过程中，所述喷涂基体表面用压缩气流进行冷却，所述喷涂基体表面温度控制在80-120℃。