[发明专利]一种微纳滤膜的制备方法

权利要求书

1.一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将无机非金属材料基底表面清洗干净；

(2)将液态的光刻胶材料涂敷到基底表面，并在基底表面上均匀分布；

(3)采用光刻或压印工艺，对基底上的光刻胶进行微米或纳米图形化加工，形成光刻胶的微米或纳米的孔洞阵列结构；

(4)对图形化的光刻胶进行后烘处理，提高光刻胶与基底表面的附着力；

(5)将具有微米或纳米的孔洞阵列的光刻胶连同基底，放入低表面能涂层溶液中浸泡，使低表面能涂层与基底未被光刻胶覆盖的表面结合；

(6)从低表面能溶液中取出基底，吹干；再采用烘箱或热板对基底进行烘干处理；

(7)将基底放入溶剂中，利用溶剂去除基底上的光刻胶，从而在基底表面得到具有表面能差异的微米或纳米的孔洞阵列区域；

(8)将聚合物树脂溶液涂覆到具有微米或纳米孔洞阵列的表面能差异区域的基底上；聚合物树脂在表面能差异区域的诱导下形成具有微米或纳米孔洞阵列的滤芯膜，组装在基底表面。

2.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：

(9)将步骤(8)获得的基底放置在加热板上；采用多孔的热塑性聚合物膜，将其压在上述组装在基底上的滤芯膜表面并铺平；然后通过加热板加热热塑性聚合物膜，加热温度至K，K为热塑性聚合物膜的玻璃态温度和滤芯膜的玻璃态温度中较高的一个温度，使热塑性聚合物膜与滤芯膜进行粘结；

(10)加热板停止加热并冷却至室温，然后将粘结在一起的热塑性聚合物与滤芯膜从基底上剥离下来，获得微纳滤膜，该纳米滤膜具有微米或纳米孔洞阵列的滤芯膜连同多孔的聚合物膜。

3.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤(2)采用离心铺胶、喷胶或丝网印刷方法将液态的光刻胶材料涂敷到基底表面。

4.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，后烘处理的温度为95℃，时间20min。

5.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤(6)中加热温度为100℃，时间2min。

6.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述无机非金属材料基底为硅片或玻璃。

7.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述光刻胶的型号为AZ1500。

8.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤(5)中浸泡时间为2小时。

9.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述聚合物树脂溶液为聚酰亚胺溶液。

10.根据权利要求1所述的一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述多孔的热塑性聚合物膜为热塑性聚丙烯无纺布。