[发明专利]高致密导电氧化铌靶材的生产方法在审
申请号: | 201410843188.6 | 申请日: | 2014-12-30 |
公开(公告)号: | CN104496473A | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 宋爱谋;钟小亮 | 申请(专利权)人: | 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 |
主分类号: | C04B35/495 | 分类号: | C04B35/495;C04B35/622 |
代理公司: | 青岛发思特专利商标代理有限公司37212 | 代理人: | 马俊荣 |
地址: | 255100山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 致密 导电 氧化 铌靶材 生产 方法 | ||
1.一种高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤如下:
(1)选择五氧化二铌粉和金属铌粉作为原料按照配比放入V型混料机中混料;
(2)将混好的粉体原料放入高能球磨罐中球磨;
(3)将球磨好的粉体放入高纯石墨模具中,粉体下部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨下压头隔离,粉体上部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨垫片隔离,粉体预压1-5吨;
(4)将石墨模具放入热压炉中,将炉内真空度抽至1-100Pa,充入0.1-1atm的高纯氩气;
(5)按照升温速率为100-300℃/小时将炉内温度升至500-800℃,保温0.5-2小时,将炉内真空度抽至1-100Pa,充入0.1-1atm的高纯氩气;
(6)给模具施压5-20MPa,然后按照升温速率为100-300℃/小时升温至950-1150℃,温度均匀化0.5-2小时,再给模具施压20-50MPa,保压保温1-4小时;
(7)将温度降至500-800℃,降温速率为50-200℃/小时,降温过程中保压10-30MPa;
(8)关闭电源随炉冷,温度降至20-100℃时,取出靶材坯料;
(9)将坯料加工成规定形状的靶材;
(10)检测靶材的密度、纯度、电阻率。
2.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(1)中所述的五氧化二铌粉的纯度为99.99-99.999%,平均粒径为1-20微米。
3.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(1)中所述的金属铌粉的纯度为99.99-99.999%,平均粒径为1-100微米。
4.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(1)中所述的金属铌的重量百分比为0.01-20%,余量为五氧化二铌。
5.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(1)中所述的混料时间为10-30分钟。
6.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(2)中所述的球磨时间为4-24小时。
7.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(10)中所述的靶材的相对密度为99-100%。
8.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(10)中所述的靶材的纯度为99.99-99.999%。
9.根据权利要求1所述的高致密导电氧化铌靶材的生产方法,其特征在于步骤(10)中所述的靶材的电阻率为0.01-0.2Ω·cm。
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