[发明专利]一种彩色滤光片基板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201410844602.5 申请日: 2014-12-30
公开(公告)号: CN104678639A 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 薛景峰;陈归 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02B5/20;G03F7/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;武岑飞
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 彩色 滤光 片基板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种彩色滤光片基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:

提供一基板(10);

在所述基板(10)上形成遮光部分(12);

在所述基板(10)上形成彩色滤光片,其中,所述彩色滤光片包括彩色部分(14)及开口部分(16);

在所述基板(10)上覆盖平坦层(18),且所述平坦层(18)填入所述开口部分(16);

对所述平坦层(18)进行光刻;

在经光刻后的平坦层(18)上形成间隔体(24)。

2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,在经光刻后的平坦层(18)上形成间隔体(24)之前,在经光刻后的平坦层(18)上形成透明电极层(22),再在所述透明电极层(22)上形成间隔体(24)。

3.根据权利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述平坦层(18)为透明负光阻层。

4.根据权利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,对所述平坦层(18)进行光刻是利用半色调光罩(20)对所述平坦层(18)进行曝光,再对经曝光后的平坦层(18)进行显影,以使经显影后的平坦层(18)的表面平整。

5.根据权利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,对所述平坦层(18)进行光刻是利用灰阶光罩(26)对所述平坦层(18)进行曝光,再对经曝光后的平坦层(18)进行显影,以使经显影后的平坦层(18)的表面平整。

6.根据权利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述彩色部分(14)包括红色、绿色及蓝色。

7.根据权利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述遮光部分(12)的材料为金属铬或黑色树脂。

8.根据权利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述彩色部分(14)是利用旋涂涂布方式在所述基板(10)表面形成红色光阻,再以曝光显影的方式,留下红色光阻在红色的像素预定区中,并去除其余位置的红色光阻。

9.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述彩色部分(14)还包括以同样的方式依序形成绿色光阻和蓝色光阻。

10.根据权利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述间隔体(24)通过涂布负光阻材料,再经过一黄光制程而形成。

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