[发明专利]像素、以及包括该像素的电润湿显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示装置领域，尤其涉及一种像素、以及包括该像素的电润湿显示装置。

背景技术

电润湿(Electro wetting)是微流体现象之一，采用电润湿原理实现显示的技术就是电润湿显示(Electro wetting Display，EWD)技术。电润湿显示技术利用油与水界面固有的自然力以及为利用这些力量而开发出的显示技术。具体是通过施加电压来调整染色油滴等疏水颜料疏水性表面的水合性，使染色油滴在不加电压时均匀扩散在像素内，在施加电压后被迅速推送到像素边缘，从而实现彩色灰阶显示。

EWD装置的具体工作原理如图1A、B所示。如图1A所示，在不加电压的关态，染色油滴20平铺在厌水亲油绝缘层的表面，整个像素的反射光通过染色油滴后使反射光表现为染色油滴的颜色。如果染色油滴为黑色，则像素显示暗态。如图1B所示，在上基板10和下基板30之间施加电压的开态，厌水亲油绝缘层从疏水性转变为亲水性，油滴20收缩，脱离厌水亲油绝缘层的表面，反射光大部分直接通过水后反射出去，只有小部分通过油滴而不能反射出去，像素整体显示为亮态。通过改变染色油滴脱离厌水亲油绝缘层的量，即暴露在水中的反射面积的大小，可以调制出各种灰阶亮度。其中，每个像素中的油滴20都通过挡水墙38互相隔离开来。

图2为现有技术中一像素结构的平面示意图。在所述阵列基板上，从衬底开始，依次有第一金属层M1，栅极绝缘层层GI，半导体层，第二金属层M2，钝化层PAS，接触孔，像素电极ITO以及亲水性隔离墙等。第一金属层M1形成的图案有扫描线31和公共电极线32，第二金属层M2形成的图案有数据线34和金属像素电极35，还包括所述数据线34沿所述扫描线31方向的数据线延长线，所述数据线延长线、所述扫描线31、像素电极35连接线与所述半导体层图案构成薄膜晶体管33，在像素电极上方设计有大尺寸的接触孔36，覆盖接触孔36并且扩展到整个像素区的是ITO像素电极37，分布在像素四周的起挡水作用的是亲水性隔离墙38。

图3为图2中像素结构沿A-A’方向的剖面示意图。如图3所示，在玻璃衬底30上面，依次分布着公共电极32，栅极绝缘层GI，金属像素电极35，钝化层PAS，接触孔36，ITO像素电极37。传统电润湿显示器的存储电容Cst是以金属像素电极35与公共电极32作为上下电极，以栅极绝缘层作为介质的平行板电容。

目前电润湿显示器采用的是低频驱动，像素需要保持的电压时间较长，并且电润湿显示没有液晶，在像素中也不存在液晶电容。所以电润湿显示在同液晶显示相比，其显示的稳定性会比较差。特别是在使用与液晶显示相同的TFT工艺的时候。

发明内容

有鉴于此，为了解决上述问题，本发明主要目的在于提供一种像素、以及包括该像素的电润湿显示装置，其像素结构能够增加像素的存储电容，使得电润湿显示器的显示稳定性得到了很大的提升。

为实现上述的目的，本发明一实施例提出了一种像素，包括：

一基板，其上依次形成有：第一金属层，具有扫描线，公共电极连接线段，第一像素电极的图案；绝缘层，具有穿过所述绝缘层的第一接触孔、第二接触孔图案；

半导体层，形成沟道图案；第二金属层，具有数据线，公共电极，像素电极连接线的图案；钝化层，具有第三接触孔图案；透明电极层，具有第二像素电极的图案；

其中，所述扫描线与所述数据线交叉围成像素区域，所述第一像素电极图案、所述公共电极与所述第二像素电极在所述像素区域内两两交叉重叠，且所述公共电极通过所述第一接触孔与所述公共电极线段电连接；所述像素电极连接线通过所述第二接触孔与所述第一像素电极连接，所述第二像素电极通过所述第三接触孔与所述第像素电极连接线电连接。

进一步地，所述第二像素电极与所述公共电极之间形成第一存储电容；所述公共电极与所述第一像素电极之间形成第二存储电容。

进一步地，还包括所述数据线沿所述扫描线方向的数据线延长线，所述数据线延长线、所述扫描线、像素电极连接线与所述沟道图案构成薄膜晶体管。

进一步地，在所述第二像素电极上还设有一亲水隔离墙，与所述像素区域的边界重叠。

为实现上述的目的，本发明另一实施例提出了一种像素，包括：一基板，其上依次形成有：第一金属层，具有扫描线，公共电极连接线段，第一像素电极的图案；

绝缘层，具有有穿过所述绝缘层的第四接触孔；半导体层，形成半导体图案；第二金属层，具有数据线，公共电极，像素电极连接线的图案；钝化层，具有第五接触孔图案；透明电极层，具有第二像素电极的图案；