[发明专利]一种盘状物夹持旋转装置有效
申请号: | 201410851693.5 | 申请日: | 2014-12-31 |
公开(公告)号: | CN104538345A | 公开(公告)日: | 2015-04-22 |
发明(设计)人: | 张豹;姬丹丹;王锐廷;吴仪 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龙;张磊 |
地址: | 100016 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 盘状物 夹持 旋转 装置 | ||
1.一种盘状物夹持旋转装置,其特征在于,包括:
环形旋转平台,其受驱动时作水平旋转;
环形可动基座和固定基座,上下设于所述旋转平台上,并与所述旋转平台形成同步旋转,所述可动基座受驱动时在所述固定基座上升起和降落;
一组固定卡爪和一组活动卡爪,突出设于所述可动基座上端面,并沿所述可动基座圆周方向分布,所述固定卡爪固接所述可动基座,所述活动卡爪转动连接所述可动基座,每个所述活动卡爪分别与一个所述固定卡爪相对设置;各所述活动卡爪的转动中心下方部位设有第一磁体,对应所述第一磁体的所述活动卡爪转动方向两侧外部设有分别连接所述可动基座、固定基座的第二、第三磁体,每二个相邻所述磁体相对面的磁极相同,且所述第一、第三磁体之间的磁排斥力大于所述第一、第二磁体之间的磁排斥力;
其中,所述可动基座降落时,各所述活动卡爪受所述第一、第三磁体之间较大排斥力的作用向所述可动基座内侧转动,将放置在各所述固定卡爪上的所述盘状物朝向各自对应的所述固定卡爪方向夹紧,所述可动基座升起时,各所述活动卡爪受所述第一、第二磁体之间排斥力的作用向所述可动基座外侧转动,将所述盘状物反向放开。
2.根据权利要求1所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述活动卡爪为L形,间隙容于所述可动基座上下贯通的对应形状腔室内,所述活动卡爪的L形竖直部通过水平转轴与所述腔室内壁转动连接,其上端由所述腔室伸出并高于所述可动基座上端面,所述活动卡爪的L形水平部朝向外侧设置;所述活动卡爪的重心位于所述转轴外侧下方,位于所述重心外侧下方的所述L形水平部设有所述第一磁体,其上方设有连接所述腔室内壁的所述第二磁体、下方设有连接所述固定基座的所述第三磁体,所述腔室在所述L形水平部向下开口;所述可动基座下端面固接顶杆,所述顶杆沿所述可动基座周向设置若干个,并依次竖直穿出所述固定基座、旋转平台;所述旋转平台下方设有升降机构,所述升降机构通过驱使所述顶杆上升或下降,带动所述可动基座在所述固定基座上升起或降落,使所述活动卡爪在所述第一、第二磁体之间排斥力及其重力转矩的共同作用下绕所述转轴向所述可动基座外侧转动,或在所述第一、第三磁体之间较大排斥力并克服其重力转矩的作用下,向所述可动基座内侧转动,将放置在各所述固定卡爪上的所述盘状物放开或夹紧。
3.根据权利要求1或2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述固定卡爪内侧设有用于放置所述盘状物的承载面和用于与所述活动卡爪配合夹持并限制所述盘状物外移的阻挡面,所述活动卡爪内侧设有用于夹持所述盘状物的卡槽,各所述卡爪所形成的有效夹持面等高且与所述盘状物的形状相匹配。
4.根据权利要求2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述升降机构包括依次连接的升降驱动单元、连杆和顶板,所述升降驱动单元通过驱使所述连杆上升或下降,带动所述顶板将所述顶杆顶起或落下,使所述可动基座在所述固定基座上升起或降落。
5.根据权利要求1或2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述磁体为永磁铁。
6.根据权利要求2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述活动卡爪的转角由对应其L形竖直部的所述腔室内壁间距限定。
7.根据权利要求1或2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述活动卡爪的夹持力由所述第一、第三磁体之间的排斥力决定。
8.根据权利要求1或2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述活动卡爪的数量为至少二个,所述固定卡爪的数量为至少三个。
9.根据权利要求1或2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,所述可动基座、固定基座和旋转平台为同心设置的圆环形,所述可动基座、固定基座的相对面分设若干相吸的永磁铁,所述固定基座固接所述旋转平台。
10.根据权利要求1或2所述的盘状物夹持旋转装置,其特征在于,环绕所述旋转平台外周依次间隙设有上端开口的处理腔体、环形定子,所述环形定子设有多个线圈绕组,所述旋转平台设有对应的磁性机构,所述环形定子在所述线圈绕组通入交变电流时产生交变磁场,使设有磁性机构的所述旋转平台产生与所述环形定子相反的磁场,以驱动所述旋转平台在所述处理腔体内悬浮旋转;所述卡爪的上、下方分设喷嘴,用于向所述盘状物上、下表面喷射处理介质,所述旋转平台下方的所述处理腔体内设有伞形导流罩,用于导流处理介质,所述处理腔体设有排液口和排风口,环绕所述处理腔体开口上方设有多层可升降回收副腔,分别用于回收由所述盘状物表面离心甩出的不同处理介质。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造