[发明专利]一种含有石墨烯的化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201410853223.2 | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104592897A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 梁海莲 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 含有 石墨 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛
光液包括以下组分及重量百分含量：
无机纳米颗粒 10～50wt％
化学添加剂 0.01-5wt％
余量为pH调节剂和水；
所述无机纳米颗粒至少包括二氧化硅和石墨烯；以所述化学机械抛光液的总质量计，所述石墨烯的质量百分含量为0.01～10wt％。
2.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述无机纳米颗粒包括氧化铝或氧化铈中的一种或两种。
3.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述石墨烯的粒径为100～5000nm。
4.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述化学添加剂选自络合剂和表面活性剂中的一种或两种。
5.如权利要求4所述化学机械抛光液，其特征在于，所述络合剂选自乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠和酒石酸钾钠中的一种或多种。
6.如权利要求4所述化学机械抛光液，其特征在于，所述表面活性剂选自十二烷基苯磺酸钠、聚氧乙烯硫酸钠、聚丙烯酸钠、聚氧乙烯醚磷酸酯、烷基醇聚氧乙烯基醚、十六烷基三甲基溴化铵中的一种或多种。
7.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH为9～10。
8.一种制备如权利要求1～7任一项所述化学机械抛光液的方法，包括以下步骤：
1)将无机纳米颗粒制成溶胶；
2)加入石墨烯粉体或石墨烯分散液，搅拌；
3)加入化学添加剂，混合即得。
9.如权利要求1～7任一项所述化学机械抛光液在抛光蓝高硬度材料上的应用。
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