[发明专利]一种滤波装置和方法及一种物质探测装置和方法在审
| 申请号： | 201410854084.5 | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104535592A | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 陈志强;张丽;赵自然;刘耀红;刘必成;顾建平;郑娟 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/02 | 分类号： | G01N23/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 滤波 装置 方法 物质 探测 | ||
1.一种滤波装置，其特征在于，所述装置包括：
双能射线源，所述双能射线源用于发射高能射线和低能射线；
滤波片，位于所述双能射线源的射线出射处，由高Z材料制成，用于对出射的高能射线和低能射线进行滤波。
2.根据权利要求1所述的滤波装置，其特征在于，所述装置还包括：
第一准直器，用于对经所述滤波片滤波后的高能射线和/或低能射线进行第一准直。
3.根据权利要求2所述的滤波装置，其特征在于，所述装置还包括：
第二准直器，用于对经所述第一准直器第一准直后的高能射线和/或低能射线进行第二准直。
4.根据权利要求1所述的滤波装置，其特征在于：
所述滤波片由铅、钨、铜、铁、锑、镍中的至少一种材料制成；
和/或，所述滤波片的厚度根据射线在1m处的剂量率占所述双能射线源的出射剂量率的比例决定，其至少为5g/cm2。
5.一种物质探测装置，其特征在于，利用经权利要求1-4中任一项所述的滤波装置滤波的高能射线和低能射线探测物质，获取所述物质的高能探测值和低能探测值，根据所述物质的高能探测值和低能探测值对所述物质进行探测。
6.一种滤波方法，其特征在于，包括：
出射高能射线，利用高Z材料制成的滤波片对所述高能射线进行滤波；
出射低能射线，利用高Z材料制成的滤波片对所述低能射线进行滤波。
7.根据权利要求6所述的滤波方法，其特征在于，所述方法还包括：
对经滤波后的所述高能射线和/或所述低能射线进行第一准直。
8.根据权利要求7所述的滤波方法，其特征在于，所述方法还包括：
对经第一准直后的所述高能射线和/或所述低能射线进行第二准直。
9.根据权利要求6所述的滤波方法，其特征在于：
所述滤波片由铅、钨、铜、铁、锑、镍中的至少一种材料制成；
和/或，所述滤波片的厚度根据射线在1m处的剂量率占所述双能射线源的出射剂量率的比例决定，至少为5g/cm2。
10.一种物质探测方法，其特征在于，利用权利要求6-9中任一项所述的滤波方法滤波的高能射线和低能射线探测物质，获取所述物质的高能探测值和低能探测值，根据所述物质的高能探测值和低能探测值对所述物质进行探测。
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