[发明专利]一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法

权利要求书

1.一种线状二氧化硅溶胶，包括液体介质和溶胶颗粒，所述溶胶颗粒为线状二氧化硅颗粒。

2.如权利要求1所述的线状二氧化硅溶胶，其特征在于，所述二氧化硅胶体粒子经扫描电镜观察呈明显线形，长度为100～200nm；液体介质是水，pH为8～10。

3.如权利要求1所述的线状二氧化硅溶胶，其特征在于，所述溶胶颗粒为长度150nm的线状二氧化硅颗粒。

4.如权利要求1-3任一权利要求所述的线状二氧化硅溶胶的制备方法，包括如下步骤：

1)以正硅酸乙酯(TEOS)作为硅源，将其与醇类溶剂按比例混合；

2)在步骤1制得的溶液中加入酸性溶液进行混合；

3)将步骤2所得溶液在常温、常压下持续搅拌1～3h，并密封陈化24～72h；

4)将步骤3所得溶液离心分散清洗，离心速度为2000～10000rpm，离心时间为15～60min；

5)将步骤4所得溶液撇去上清液，下部浑浊液与上清液等量的超纯水混合，超声20～60min；

6)将步骤5所得溶液重复步骤4、步骤5，直到溶液中残余有机碳含量在1000ppm以下，pH值为6.5～7.5；

7)在步骤6所得溶液中加入碱性稳定剂调节pH为8.5～10.5，制得线形二氧化硅溶胶。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，步骤1)中，正硅酸乙酯与醇类溶剂的体积比为1:30～1:80。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，步骤2)中，酸性溶液为盐酸，硫酸，硝酸，甲酸，乙酸，柠檬酸，草酸中的一种或两种。

7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，步骤7)中，碱性稳定剂为无机碱或有机碱。

8.如权利要求1-3任一权利要求所述的线形二氧化硅溶胶在CMP抛光领域的用途。

9.根据权利要求8所述的用途，其特征在于，所述用途具体为所述线形二氧化硅溶胶在制备抛光剂中的用途。

10.一种抛光剂，其特征在于，所述抛光剂中含有如权利要求1-3任一权利要求所述的线形二氧化硅溶胶。