[发明专利]液晶显示设备及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示设备，所述液晶显示设备包括：

栅极；

栅绝缘层，其位于所述栅极上；

有源层，其对应于所述栅极位于所述栅绝缘层上；

源极和漏极，其位于所述有源层上；

第一钝化层，其位于所述源极和所述漏极上；

公共电极，其位于所述第一钝化层上；

第二钝化层，其位于所述公共电极上，覆盖所述公共电极，并且具有以所述公共电极的厚度与所述第一钝化层分开的区域；

像素电极，其位于所述第二钝化层上，并且通过漏接触孔连接到所述漏极；以及

公共线，其位于与所述像素电极相同的层，并且连接到所述公共电极。

2.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中，所述像素电极与所述公共电极通过所述分开的区域分开。

3.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中，所述第一钝化层的侧表面相对于所述第二钝化层的相应侧表面突出约2μm到约3μm。

4.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中，所述公共电极和所述像素电极包括透明导电材料。

5.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中，所述公共电极具有300埃到500埃之间的厚度。

6.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中，所述源极和所述漏极具有单层结构或者多层结构。

7.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中，所述像素电极和所述公共线具有使用不同导电材料的多层结构。

8.一种液晶显示设备，所述液晶显示设备包括：

栅极；

栅绝缘层，其位于所述栅极上；

有源层，其对应于所述栅极位于所述栅绝缘层上；

源极和漏极，其位于所述有源层上；

第一钝化层，其位于所述源极和所述漏极上；

第二钝化层，其位于所述第一钝化层上；

公共电极，其位于所述第二钝化层上，并且露出所述第二钝化层的一部分；

第三钝化层，其位于所述公共电极上，并且具有与所述第二钝化层分开的区域，其中所述公共电极不位于所述分开的区域；

像素电极，其位于所述第三钝化层上，并且通过漏接触孔连接到所述漏极；以及

公共线，其位于与所述像素电极相同的层，并且连接到所述公共电极。

9.根据权利要求8所述的液晶显示设备，其中，所述像素电极与所述公共电极通过所述分开的区域分开。

10.根据权利要求8所述的液晶显示设备，其中，所述第二钝化层的侧表面相对于所述第三钝化层的相应侧表面突出约2μm到约3μm。

11.根据权利要求8所述的液晶显示设备，其中，所述公共电极和所述像素电极包括透明导电材料。

12.根据权利要求8所述的液晶显示设备，其中，所述公共电极具有大约在300埃到500埃之间的厚度。

13.根据权利要求8所述的液晶显示设备，其中，所述源极和所述漏极具有单层结构或者多层结构。

14.根据权利要求8所述的液晶显示设备，其中，所述像素电极和所述公共线具有使用不同导电材料的多层结构。

15.一种制造液晶显示设备的方法，所述方法包括以下步骤：

在基板上形成选通线、栅极和选通焊盘；

在所述选通线、所述栅极和所述选通焊盘上形成栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上形成数据线、源极、漏极和数据焊盘；

在所述数据线、所述源极、所述漏极和所述数据焊盘上形成第一钝化层；

在所述第一钝化层上形成公共层；

在所述公共层上形成第二钝化层；

对所述第二钝化层进行第一干法蚀刻；

对通过经第一干法蚀刻的所述第二钝化层所露出的所述公共层进行第一湿法蚀刻以形成公共图案；

对所述栅绝缘层、所述第一钝化层和所述第二钝化层进行第二干法蚀刻；

对通过经第二干法蚀刻的所述第二钝化层所露出的所述公共图案进行第二湿法蚀刻以形成公共电极；以及

在所述第二钝化层上形成像素电极和公共线。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述第一钝化层具有平坦上表面。