[发明专利]具有低反射黑底的平板显示器及其制造方法有效
申请号: | 201410858296.0 | 申请日: | 2014-12-24 |
公开(公告)号: | CN105097869B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 李振福;金容一;李恩惠 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 反射 黑底 平板 显示器 及其 制造 方法 | ||
1.一种有机发光二极管显示装置,该有机发光二极管显示装置包括:
基板,其具有开放区和非开放区;
模糊层,其设置在所述基板的内表面上的所有的所述非开放区内;
黑底,其堆叠在所述模糊层上;
驱动元件,其位于所述非开放区内的覆盖所述黑底的绝缘层上;以及
显示元件,其位于所述开放区内并被所述驱动元件驱动,
其中,在所述模糊层和所述黑底之间的界面具有提高的粗糙度,用于散射反射来自所述基板的外部的光,
其中,所述黑底包括具有提高的粗糙度的下表面和不具有提高的粗糙度的上表面。
2.根据权利要求1中所述的有机发光二极管显示装置,其中,穿过所述模糊层将视频信息提供到所述基板的外部。
3.一种用于制造平板显示器的方法,该方法包括:
在基板上形成无机层;
通过对所述无机层的表面进行表面处理,形成具有提高的粗糙度的模糊层;
在所述模糊层上,形成黑底;
用所述黑底作为掩模,将所述模糊层图案化;以及
在所述基板上形成显示元件。
4.根据权利要求3中所述的方法,其中,进行所述表面处理包括干蚀刻工艺、湿蚀刻工艺和等离子体处理中的至少一种。
5.根据权利要求4中所述的方法,其中,形成所述无机层包括沉积厚度为到的氧化硅、氮化硅及非晶硅中的至少一种。
6.根据权利要求3中所述的方法,其中,形成所述显示元件包括:
在具有所述黑底的所述基板上,沉积缓冲层;以及
在所述缓冲层上,形成有机发光二极管显示元件。
7.根据权利要求3中所述的方法,其中,形成所述显示元件包括:
在所述基板上的所述黑底之间,形成滤色器;
在下基板上,形成有机发光二极管显示元件;以及
将所述基板和所述下基板以预定距离附接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410858296.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的