[实用新型]用于酸性蚀刻液再生的电解槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于为酸性蚀刻液再生提供反应物的电解槽，属于资源再利用和有色金属回收领域。

背景技术

全世界范围内，电器电子工业是增长最快的产业之一，印刷电路板作为电器电子产品的重要组成部分，产量也日益增加。常规的酸性蚀刻处理是将印刷电路板放入蚀刻机内的蚀刻液中进行蚀刻反应。印刷板上铜的去除时间有限，且部分可能会因为一些有机的或其他抗酸性的抗体阻止了与酸性蚀刻液建立导体，从而导致时间受到限制。

通常情况下，每分钟去除30至60微米铜的速率是可以实现的。但是，由于铜的饱和且为维持一个可接受的处理速度，蚀刻液必须经常性的更换，这样就会造成大量的废弃蚀刻液。

现有技术中，蚀刻液的再生需按照如下蚀刻反应添加添加剂（如过氧化氢H₂O₂，臭氧O₃，氯酸钠NaClO₃）才能实现：

Cu+2HCl+H₂O₂→CuCl₂+2H₂O；

Cu+2HCl+1/3O₃→CuCl₂+H₂O；

Cu+2HCl+1/3NaClO₃→CuCl₂+1/3NaCl+H₂O；

另外，传统蚀刻工艺存在蚀刻铜的量和回收再生的量之间化学不匹配的现象，无论是蚀刻液的供给，排放或是铜回收系统，导致蚀刻液的再生和铜回收的效果不佳。

实用新型内容

鉴于上述现有技术存在的缺陷，本实用新型的目的是提出一种用于为酸性蚀刻液再生提供反应物的电解槽。

本实用新型的目的将通过以下技术方案得以实现：

一种电解槽，包括设有电-电渗析系统的A隔间和内设有电解系统的B隔间，所述A隔间包括用于产生反应气体O₂的第一阳极室；用于回收铜的第一阴极室，以及置于所述第一阳极室和和第一阴极室之间的中间室；所述B隔间包括用于产生反应气体O₂和加速剂ClO₃^-的第二阳极室，以及用于回收铜的第二阴极室。

优选的，所述B隔间包括2个第二阳极室和2个第二阴极室，所述第二阳极室和第二阴极室间隔设置。

优选的，所述第一阳极室和中间室之间设有仅限阳离子从所述第一阳极室进入到中间室内的阳离子膜，所述中间室和第一阴极室之间设有仅限阴离子从所述第一阴极室进入到中间室内的阴离子膜。

优选的，所述第一阴极室和第二阴极室内设有钛板电极，电流密度在1到10A/dm²之间。

优选的，所述第一阳极室内包含硫酸溶液和钛板电极，硫酸适宜的浓度为10%到20%之间，电流密度为1到5A/dm²。

优选的，还包括一第一缓存槽，所述第一缓存槽与所述第一阴极室和第二阴极室通过管路连接。

优选的，还包括一第二缓存槽，所述第二缓存槽与第一阳极室管路连接。

优选的，所述第二缓存槽的中储存的溶液是H₂SO₄，通过泵浦与电-电渗析系统中第一阳极室内的H₂SO₄溶液进行循环。

本实用新型的突出效果为：电解槽结构简单、紧凑，能很好地为酸性蚀刻液再生过程提供需要的加速剂和反应气体，从而使整个酸性蚀刻液再生过程不需要添加任何再生用的添加剂。

以下便结合实施例附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的详述，以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。

附图说明

图1是本实用新型再生酸性蚀刻液以及回收铜设备的结构示意图。

图2是本实用新型再生酸性蚀刻液以及回收铜设备中在对铜进行回收时反应器内的结构流程示意图。

图3是本实用新型再生酸性蚀刻液以及回收铜设备中在对铜进行回收时电解槽内的结构流程示意图。

图4是本实用新型再生酸性蚀刻液以及回收铜设备中在对铜进行回收时，电解槽B隔间内的结构流程示意图。

图5是本实用新型再生酸性蚀刻液以及回收铜设备中在对铜进行回收时，电解槽A隔间内的结构流程示意图。

具体实施方式

本实用新型揭示了一种可以再生酸性蚀刻液以及回收铜的设备和方法。