[实用新型]真空吸盘有效

专利信息
申请号: 201420009654.6 申请日: 2014-01-08
公开(公告)号: CN203685831U 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 任国良 申请(专利权)人: 任国良
主分类号: F16B47/00 分类号: F16B47/00;A47G29/087
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 刘凤钦;徐芙姗
地址: 315460 浙江省余姚市临*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 真空 吸盘
【权利要求书】:

1.一种真空吸盘,包括一位于顶部可绕其自身的轴旋转的盖子(10),和位于底部与吸附面相贴合的吸附片(30),其特征在于:还包括位于所述盖子(10)和吸附片(30)之间的与所述吸附片(30)连接并且可以调整吸附片(30)的中心部分高度的高度调整件(40),以及位于所述高度调整件(40)与吸附片(30)之间、紧密压住吸附片(30)的周面使之贴紧吸附面并且能使高度调整件(40)的高度进行调整的压力座(20),以及位于所述高度调整件(40)与盖子(10)之间的并且与所述压力座(20)相固定的导向件(50)。

2.如权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述压力座(20)上设有高度调整斜面(22),所述高度调整件(40)在所述盖子(10)的驱动下沿所述高度调整斜面(22)运动调整吸附片(30)中心部分的高度,进而使所述吸附片(30)的中心部分与吸附面脱离并且与吸附面之间形成真空负压。

3.如权利要求2所述的真空吸盘,其特征在于:所述吸附片(30)包括一平坦并且与吸附面紧贴的底面(31),以及位于上表面的中心部分的至少两个钩子(32),所述钩子(32)相互间隔并且围成一与吸附片(30)同心的环形,所述压力座(20)的底面的中心部分具有一为吸附片(30)的中心部分向上提升提供空间的凹部(29),所述压力座(20)的底面的外侧为一压紧所述吸附片(30)的上表面的周边的圆环,所述压力座(20)的上表面的中心设有一向上的中心柱(24),并且所述中心柱(39)的周边设有与所述吸附片(30)的钩子(32)相匹配并且供所述钩子(32)穿过的孔(14),所述高度调整斜面(22)设于所述压力座(20)的上表面上,所述高度调整件(40)位于所述压力座(20)的上方并且通过钩子(32)与所述吸附片(30)连接。

4.如权利要求3所述的真空吸盘,其特征在于:所述高度调整件(40)的上表面上设有至少两个间隔设置并且围成一与盖子(10)同心的环形的凹孔(43),所述盖子(10)的顶面(101)的内侧设有竖直向下延伸的沿一圆周均匀分布的呈弧形的固定片(12),所述固定片(12)与高度调整件(40)上的凹孔(43)相匹配,并且卡于所述凹孔(43)内,并且所述凹孔(43)可套于所述固定片(12)的外侧随着盖子(10)的转动沿该固定片(12)上下移动。

5.如权利要求4所述的真空吸盘,其特征在于:所述高度调整件(40)为一圆环,所述高度调整件(40)的中心为一中心圆孔(41)露出所述压力座(20)的中心柱(24),所述钩子(32)正好卡于所述中心圆孔(41)的边缘并且与所述高度调整件(40)固定,所述高度调整件(40)的圆周连接有至少两个沿圆周均匀分布的沿圆环径向延伸的限位块(42),所述高度调整斜面(22)为至少两个并且为弧形,每个高度调整斜面(22)都沿着弧形的延伸方向从下往上倾斜,并且该至少两个高度调整斜面(22)组成一与盖子(10)同心的环形,初始安装时所述连接片(11)位于所述高度调整斜面(22)的最底端,并且所述限位块(42)沿所述高度调整斜面(22)从下往上提升。

6.如权利要求2或5所述的真空吸盘,其特征在于:所述导向件(50)为一环形部件,包括与所述压力座(20)相固定的外圈(51),以及位于所述外圈(51)内侧的向下设置的弧面(52),所述弧面(52)位于所述高度调整斜面(22)的上方并且与所述高度调整斜面(22)相间隔相对设置,所述限位块(42)在运动时就位于所述高度调整斜面(22)与所述弧面(52)之间。

7.如权利要求5所述的真空吸盘,其特征在于:所述每个高度调整斜面(22)的最高端设有一限高柱(15),所述限高柱(15)与高度调整斜面(22)的最高端之间设有一限位凹部(18),所述限位块(42)运动至所述高度调整斜面(22)的最高端时卡于所述限位凹部(18)。

8.如权利要求5所述的真空吸盘,其特征在于:所述中心圆孔(41)的边缘设有一圈厚度较薄的钩环(35),所述钩子(32)的截面为F形并且其上端的两个面正好卡于所述高度调整件(40)的钩环(35)的上下。

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