[实用新型]一种镀膜玻璃有效

专利信息
申请号: 201420011565.5 申请日: 2014-01-06
公开(公告)号: CN204020101U 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 王勇;黄成德;王烁;刘双;胡冰;宋宇 申请(专利权)人: 天津南玻节能玻璃有限公司;天津南玻工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
主分类号: B32B9/04 分类号: B32B9/04;B32B17/00;C03C17/34
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 韩敏
地址: 301700 天津市武清*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 玻璃
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种镀膜玻璃,更具体的涉及具有红外反射功能的镀膜玻璃。 

背景技术

玻璃是主要用于门窗、幕墙和汽车挡风的一种透明、隔热保温的主要材料,它是建筑物或汽车中最薄、最易传热的部分,所以中空玻璃目前被广泛采用,它是在玻璃与玻璃之间留有一定的空腔;因此,具有良好的保温、隔热、隔声等性能。但是这种中空玻璃热工性能不强,受到强烈震动或者冲击容易破碎,也不具有净化室内空气功能。目前热工性能最好的low-e中空玻璃产品,其传热系数U值为1.6W/m2.K左右,遮阳系数Sc为0.3上下;在常规中空玻璃结构情况下,其热传导系数U值及遮阳系数Sc都很难再进一步降低。为了进一步降低产品的U值,通常的做法是通过改变中空厚度及在中空结构中充入惰性气体或增加基片厚度等方式来降低其热传导系数,但这无疑会增加产品的成本,提高成品价格,且对产品性能提高有限,不符合主流市场需求,很难实现规模化生产。另外一种提高产品热工性能的做法是在中空玻璃二号面镀low-e膜层,在3#面镀制热反射膜,但此种方法仅对遮阳系数Sc有所贡献,对传热系数U值没有任何降低,且只适合于南方夏季时间较长的地区使用。而在中空玻璃二号面和三号面都镀制low-e膜,相对于只在二号面镀膜的产品,仅对遮阳系数Sc和传热系数U稍有贡献(都只提高0.01~0.03),对产品整体性能几乎没有影响,根本不具备现实生产意义。通常情况下,中空玻璃包括四个面,由室外面至室内面依次包括一号面、二号面、三号面和四号面。 

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术的技术缺陷,本实用新型旨在提供一种具有红外反射功能的镀膜玻璃,为实现以上技术目标,本实用新型采用以下技术方案: 

一种镀膜玻璃,包括:玻璃基片和镀膜,以所述玻璃基片为基板,所述镀膜由内向外的膜层结构为: 

第一电介质组合层膜,所述第一电介质组合层膜为折射率n在2.0~2.7之间的电介质材料; 

第二电介质组合层膜,所述第二电介质组合层膜为折射率n在1.4~1.8之间的电介质材料; 

第三层膜,所述第三层膜为折射率n在2.0~2.5透明氧化物导电膜层; 

第四电介质组合层膜,所述第四电介质组合层膜折射率n在1.4~1.8之间的电介质材料; 

第五层膜; 

第六层膜,所述第六膜层为阻挡保护层。 

进一步,所述的第一电介质组合层膜为SiNx、TiOx或ZrOx中的一种或几种组合。 

进一步,所述的第二电介质组合层膜为SiOx、SiOxNy或ZrSiOx中的一种或几种组合。 

进一步,所述第三膜层为ITO、TNO或AZO中的一种或几种组合。 

进一步,所述的第四电介质组合层膜为SiOx、SiOxNy、ZrSiOx或ZrSiNx中的一种或几种组合。 

进一步,所述的第五膜层为SiNx或TiOx。 

进一步,所述的第六膜层为SiC、ZrOx或SiNx。 

进一步,该第一电介质组合层膜厚度为15-35nm,第二电介质组合层膜厚度为10-40nm,第三层膜厚度为80-500nm,第四电介质组合层膜厚度为15-45nm,第五层膜厚度为10-35nm;第六层膜厚度为5-30nm。 

本实用新型还公开了镀膜玻璃的制备方法,其特征在于包括如下步骤: 

步骤1:提供玻璃基片; 

步骤2:在该玻璃基片上沉积第一层电介质组合层膜——SiNx、TiOx或ZrOx一种或组合; 

步骤3:在第一层上沉积第二层电介质组合层膜——SiOx、SiOxNy或ZrSiOx中的一种或几种; 

步骤4:在第二层上沉积第三层透明氧化物导电层膜——如ITO、TNO或AZO中的一种或组合; 

步骤5:在第三层上沉积第四层电介质组合层膜——SiOx、SiOxNy、ZrSiOx或ZrSiNx; 

步骤6:在第四层上沉积第五层膜——SiNx或TiOx; 

步骤7:在第五层上沉积第六层膜——SiC、ZrOx或SiNx。 

进一步,其中,第一层电介质组合层膜中的SiNx的加工方法为中频电源加旋转阴极溅射沉积,其中工作气体是Ar,反应气体是N2,TiOx同样用中频电源旋转阴极溅射沉积,工作气体为Ar气,ZrOx用直流或中频电源反应溅射沉积,工作气体Ar,反应气体O2,该层的沉积后的范围是15-35nm,优选20~30nm; 

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