[实用新型]随钻测斜仪有效
申请号: | 201420015298.9 | 申请日: | 2014-01-10 |
公开(公告)号: | CN203640720U | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 刘洪伟;杨志;董炳燕;吴睿 | 申请(专利权)人: | 刘洪伟 |
主分类号: | E21B47/02 | 分类号: | E21B47/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 401331 重庆*** | 国省代码: | 重庆;85 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 随钻测斜仪 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种在石油钻井工程中用于地质导向的随钻测量仪器。
背景技术
目前在石油钻井工程领域的测斜仪器主要有磁性测斜仪和陀螺测斜仪,但磁性测斜仪受到地层内部磁场的影响,测量精确度受到很大的影响。陀螺测斜仪结构复杂,有大量电子元件和集成放大电路,容易受到钻井过程中产生的电磁干扰,影响测量精度。目前常用的井下测斜仪器主要是基于固态陀螺仪,其集成电路容易受到电磁干扰。采用机械陀螺仪不能适应井下复杂苛刻的工作环境,而且机械陀螺仪的制造要求非常高,因此成本也很高。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题,提供一种随钻测斜仪,采用全新的机械设计,大大减少井下电路部分,更加稳定可靠。
为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本实用新型通过以下技术方案实现:
一种随钻测斜仪,包括大致呈无盖空心圆柱体的外壳,所述外壳两侧内壁上分别设置有一质量块,所述质量块与所述外壳之间分别设置有径向压力传感器,质量块下方分别设置有轴向压力传感器。
进一步的,所述质量块通过保护体连接在所述外壳上,并通过与所述外壳同轴设置的内衬套与外壳相固定。
优选的,所述保护体为块状,设置有两个,所述质量块分别镶嵌于所述保护体中。
优选的,所述保护体为一无盖空心圆柱体,所述质量块分别镶嵌于所述保护体外壁两侧。
进一步的,所述保护体与所述外壳之间设置有密封垫片。
进一步的,所述的径向压力传感器、轴向压力传感器以及钻柱的转速传感器分别连接至信号放大滤波处理电路,信号放大滤波处理电路依次连接有数模转换电路及微处理器。
进一步的,所述微处理器依次通过存储器、调制解调器及总线隔离驱动电路连接至电源信号总线。
优选的,所述的径向压力传感器、轴向压力传感器、转速传感器、微处理器以及总线隔离驱动电路通过电源控制电路供电。
本实用新型的有益效果是:
当钻井过程中发生井斜时,随钻测斜仪会随着井斜发生倾斜,倾斜后,随钻测斜仪的回转轴线与重力线不重合,导致质量块对径向压力传感器产生周期性的波动压力(随着钻柱转动),压力传感器的周期性波动信号经过滤波放大处理,然后经过模数转换电路转换为数字信号,结合转速数据等,经过微处理器处理后就可以得到井斜的角度参数。轴向压力传感器用于修正钻井过程中轴向振动引起的误差。
该装置结构简单,可靠性高,适用于苛刻地层的随钻测斜任务。能够实时无滞后测量井斜,有利于及时调整井眼轨迹。适合于在石油工程中进行地质导向。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1为随钻测斜仪剖视图;
图2为图1俯视图;
图3为电路连接示意图。
图中标号说明:1、外壳,2、质量块,3、径向压力传感器,4、轴向压力传感器,5、保护体,6、内衬套,7、密封垫片,8、转速传感器,9、信号放大滤波处理电路,10、数模转换电路,11、微处理器,12、存储器,13、调制解调器,14、总线隔离驱动电路,15、电源控制电路。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本实用新型。
参照图1、图2所示,一种随钻测斜仪,包括大致呈无盖空心圆柱体的外壳1,所述外壳1两侧内壁上分别设置有一质量块2,所述质量块2与所述外壳1之间分别设置有径向压力传感器3,质量块2下方分别设置有轴向压力传感器4。所述质量块2通过保护体5连接在所述外壳1上,并通过与所述外壳1同轴设置的内衬套6与外壳1相固定。所述保护体5与所述外壳2之间设置有密封垫片7。
作为本实用新型的一种实施例,所述保护体5为一无盖空心圆柱体,所述质量块2分别镶嵌于所述保护体5外壁两侧。
参照图2所示,作为本实用新型的优选实施例,所述保护体5为块状,设置有两个,所述质量块2分别镶嵌于所述保护体5中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于刘洪伟,未经刘洪伟许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420015298.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。