[实用新型]一种宽视场光谱成像系统辅助装调装置有效

专利信息
申请号: 201420028377.3 申请日: 2014-01-17
公开(公告)号: CN203772413U 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 袁立银;何志平;陈爽;舒嵘 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/26
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 视场 光谱 成像 系统 辅助 装置
【说明书】:

技术领域

专利涉及光谱成像系统的装调,特别是指一种宽视场光谱成像系统辅助装调装置。

背景技术

光谱成像系统能同时获取目标的图谱信息,包括二维空间信息和光谱信息,兼具空间识别和光谱探测功能,可应用在航天航空遥感、军事侦查、地质矿物识别、植被生态、海色及大气等研究中。

宽视场光谱成像系统具有较大的线视场,甚至40°以上,同时这种系统的空间和光谱维度的像元级和亚像元级的配准,都对系统的装调尤其是探测器的装调提出了很高的要求。光谱成像系统在保证光学镜头高精度装调、视场光栏高精度装调的情况下,探测器的空间维度和光谱维度的装调也需要高精度。本专利设计了一种专门针对宽视场光谱成像系统装调的辅助装调装置及方法,该装置及方法提高了宽视场光谱成像系统装调精度,缩短了装调周期。

发明内容

本专利目的是弥补现有技术的缺陷,提供一种针对宽视场光谱成像系统的辅助装调装置。

一种宽视场光谱成像系统的辅助装调装置,它包括宽视场产生部分和准单色光产生部分。

所述的宽视场产生部分由光学底板1、两片分居于待装调系统两侧半视场角附近的第一平面反射镜2和第二平面反射镜3、对应的第一调整架4和第二调整架5组成;所述的平面镜2,3面形精度优于λ/5,不影响待装调系统像质,纵向尺寸不小于待装调系统入射口径,横向尺寸不小于待装调系统入射口径除以半视场正弦的商值;所述的调整架4,5是一个二维角度调整件和一个高精度一维转台的组合,用以调整平面镜的偏摆和俯仰二维角度;

所述的准单色光产生部分由复色光源6、两块位于待装调系统入口附近的第一窄带滤光片7和第二窄带滤光片8组成;所述的两块窄带滤光片7,8,其透过带宽与待装调系统的光谱采样率尽量接近,两块窄带滤光片的透过波长在待装调系统探测器上可以分开;所述的复色光源6位于平面镜2,3中间,其发光光谱覆盖第一窄带滤光片7和第二窄带滤光片8的透过光谱。

利用所述装置装调宽视场光谱成像系统,包括下列步骤:

(一)点视场复色光调空间维

该步骤对应宽视场光谱成像系统的空间分辨率调节,对应探测器相对于光轴前后和沿空间维的调节。

1将缝宽对应待装调系统瞬时视场的狭缝板9放置在平行光管10的焦面上,狭缝板9与宽视场光谱成像系统11的内部视场光栏狭缝垂直,用卤钨灯照亮狭缝板9。

2借助辅助镜,借助待装调系统的机械端面,调节平行光管准直光线正入射待装调系统。

3初装待装调系统的探测器,使接收的零视场狭缝光谱像居于探测器空间维中央。

4在平行光管10和宽视场光谱成像系统11之间的准直光路中放置辅助装调装置,调节第一调整架4的二维角度调整件使第一平面反射镜2的光学面严格垂直于待装调系统水平面,判断方法是:通过旋转第一调整架4的一维高精度转台改变点视场位置,观察点视场光谱像的是否一直平行于探测器列。

5调节第二调整架5的二维角度调整件使第二平面反射镜3的光学面严格垂直于待装调系统水平面。

6根据待装调系统的半视场角,通过调节第一调整架4的一维高精度转台,使光线折转接近半视场角的角度;通过调节第二调整架5的一维高精度转台,使光线折转接近半视场角的角度。

7探测器上接收到三条点视场光谱像,相对于光轴前后调节探测器,沿空间维调节探测器,使三条点视场光谱像各自都落在一列元内,此时已调整好探测器的空间维位置。

(二)全视场单色光调光谱维

该步骤对应宽视场光谱成像系统的光谱调准,对应探测器沿光谱维的调节。

1将第一窄带滤光片7和第二窄带滤光片8略有交叠放在待装调系统的入口处。

2复色光源6照亮待装调系统11的内部视场光栏狭缝使其成像的探测器上,根据设计文件中第一窄带滤光片7和第二窄带滤光片8透过的波长落在探测光谱维上的行数,沿光谱维平移探测器,此时已调整好探测器的光谱维位置。

3撤走光源6、第一窄带滤光片7和第二窄带滤光片8,再观察三条点视场光谱像是否各自都落在一列元内,若不是,则微调探测器相对于光轴前后和沿空间维的位置,使三条点视场光谱像各自都落在一列元内。

4反复几次点视场复色光调空间维和全视场单色光调光谱维,使探测器空间维和光谱维位置与设计相符。

本专利的优点是:

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