[实用新型]一种真空灭弧室及其电极和杯状横磁触头结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空灭弧室。

背景技术

真空灭弧室是真空开关的核心部件，其主要包括绝缘外壳、导电回路和屏蔽系统等部分，其中，导电回路由动、静电极组成，动、静电极由相应的导电杆和固定设置在导电杆上的触头构成。由于触头是产生电弧和熄灭电弧的部位，所以触头的结构对灭弧室开断电流的能力有很大的影响，现有的开断电流31.5kA及以下的真空开关广泛采用杯状横磁触头，该触头主要由横磁触头杯、触头片和位于触头杯中对触头片进行支撑的支撑盘组成，触头片的材料为铜铬合金，触头杯的材料为无氧铜，支撑盘的材料为导电率很低的不锈钢，触头片为圆环形结构焊接在触头杯的杯口沿端面上，触头杯的周壁上间隔均布有呈一定角度的斜槽，斜槽将触头杯周壁分割成若干匝，匝数与斜槽数量相等，匝数的多少对触头杯的成本、机械强度和斜槽的倾角及旋转包角都有很大的影响，而斜槽的倾角和旋转包角又对磁场起着决定作用。目前杯状横磁触头一般使用8-16匝结构，该触头存在机械加工时间长、导电回路电阻比较大和机械强度较低等缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种机械加工时间短、导电回路电阻小和机械强度高的真空灭弧室杯状横磁触头结构。本实用新型同时提供使用该触头结构的真空灭弧室电极和真空灭弧室。

为实现上述目的，本实用新型的一种真空灭弧室杯状横磁触头结构采用如下技术方案：一种真空灭弧室杯状横磁触头结构，包括横磁触头杯和固定在横磁触头杯口沿上的环形触头片，所述横磁触头杯的周壁上沿周向均布有四个斜槽，横磁触头杯内设置有触头片支撑件。

所述支撑件为支撑套体，支撑套体的外径与横磁触头杯内径相适配。

所述支撑套体与横磁触头杯之间为间隙配合。

本实用新型的一种真空灭弧室电极采用如下技术方案：一种真空灭弧室电极，包括导电杆和固定设置在导电杆上的杯状横磁触头，横磁触头包括横磁触头杯和固定在横磁触头杯口沿上的环形触头片，所述横磁触头杯的周壁上沿周向均布有四个斜槽，横磁触头杯内设置有触头片支撑件。

所述支撑件为支撑套体，支撑套体的外径与横磁触头杯内径相适配。

所述横磁触头杯与导电杆为一体结构。

所述支撑套体与横磁触头杯之间为间隙配合。

本实用新型的一种真空灭弧室采用如下技术方案：一种真空灭弧室，包括绝缘外壳和动、静电极，动电极包括动导电杆和固定设置在其上的杯状横磁触头，静电极包括静导电杆和固定设置在其上是杯状横磁触头，杯状横磁触头包括横磁触头杯和固定在横磁触头杯口沿上的环形触头片，所述横磁触头杯的周壁上沿周向均布有四个斜槽，横磁触头杯内设置有触头片支撑件。

所述支撑件为支撑套体，支撑套体的外径与横磁触头杯内径相适配。

所述横磁触头杯与导电杆为一体结构。

本实用新型在横磁触头杯上开设四个斜槽，将触头杯杯身周壁分割成四匝结构，在不增加触头直径和灭弧室体积的前提下，四匝结构一方面减少了机械加工时间，提高了触头的机械强度，另一方面增加了导电面积，降低了导电回路的电阻，提高了杯状横磁触头的额定通流能力，第三方面，由于开槽较少，增加了电流的径向分量，提高了触头间的磁场强度，从而提高了真空灭弧室开断电流的能力。

附图说明

图1是本实用新型真空灭弧室一种实施例中导电回路部分的结构示意图；

图2是图1中支撑套体的结构示意图；

图3是图1中横磁触头杯的结构示意图；

图4是图1中触头片的结构示意图。

具体实施方式

本实用新型的真空灭弧室实施例：其主要包括绝缘外壳、导电回路和屏蔽系统，它们之间的装配关系与现有技术相同，其中，导电回路包括动、静电极，两电极的结构如图1-4所示，动电极由动导电杆2和固定设置在动导电杆上的杯状横磁触头4组成，静电极由静导电杆1和固定设置在静导电杆上的杯状横磁触头3组成，两杯状横磁触头的主体结构相同。