[实用新型]一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板有效

专利信息
申请号: 201420043728.8 申请日: 2014-01-23
公开(公告)号: CN203728962U 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 杜全钢;李维刚;谢小刚;姜炜;冯巍;郭永平;蒋建 申请(专利权)人: 新磊半导体科技(苏州)有限公司
主分类号: C30B23/02 分类号: C30B23/02;C23C16/458
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张慧
地址: 215151 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 分子 外延 大规模 生产 设备 中的 衬底
【权利要求书】:

1.一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板,其特征在于:该衬底托板包括衬底片的台阶(1)、阻挡热辐射圆环的台阶(2)、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶(3),三个台阶均为环形结构,该衬底托板为一圆形通孔;阻挡热辐射圆环的台阶(2)在衬底片的台阶(1)和限制阻挡热辐射圆环移动的台阶(3)之间;所述衬底片的台阶(1)、阻挡热辐射圆环的台阶(2)、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶(3)是以圆形通孔为中心的台阶结构。

2.根据权利要求1所述的一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板,其特征在于:该衬底托板由一完整的钼板通过机械加工而成,在钼板表面通过铣削加工形成三个台阶;三个台阶的高度及台阶半径依所添加衬底尺寸决定。

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