[实用新型]阵列基板和显示面板

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，具体地，涉及一种阵列基板和显示面板。

背景技术

在液晶显示屏的阵列基板制作中，需要对像素电极以及信号线的宽度进行测量，由于像素电极为透明结构，不容易测出像素电极的边界；数据线通常为倾斜的（如图1所示），较难用现有设备进行测量。通常在显示区域周边的测试区域形成测试图形，如图2和图3所示，为了提高测量效果，测试区域中首先形成有阻光导电层1，以起到遮挡光线并实现检测的作用；然后在阻光导电层1上形成测试用像素电极2、测试用数据线3。但是由于测试区域的测试图形与像素区中的真实图形之间存在差异，导致刻图工艺中，测试图形与像素区的真实图形存在差异，使得在测试区域测得的像素电极的尺寸（如图2中所标识的a’）和在测试区域测得的数据线的尺寸（如图3中所标识的b’）与显示区中的像素电极的真实尺寸和显示区中的数据线的真实尺寸之间存在一定的差异。

因此，如何减少像素电极和数据线的测量值与真实值的差异成为本领域亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种阵列基板和包括该阵列基板的显示面板，以减少像素电极和数据线的测量值与真实值的差异。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种阵列基板，包括设置在显示区域周边的阻光导电层以及设置在该阻光导电层的上方的测试层，所述测试层上设置有多个沿所述测试层厚度方向贯穿所述测试层的通孔，所述阵列基板包括与像素电极同层设置的所述测试层和/或与数据线同层设置的所述测试层，其中，

在与像素电极同层设置的所述测试层中，相邻两个所述通孔之间的距离与相邻两个所述像素电极之间的距离一致；

在与数据线同层设置的所述测试层中，相邻两个所述通孔之间的距离与所述数据线宽度一致。

优选地，所述通孔的长度与所述显示区域内的像素电极的长度一致，所述通孔的宽度是相邻两个所述通孔的边界之间距离的1～3倍。

优选地，所述通孔的个数不小于100个。

优选地，所述阻光导电层与所述阵列基板的栅线同层设置。

优选地，所述阵列基板的数据线倾斜于所述阵列基板的栅线。

优选地，所述通孔的长度方向垂直于所述阵列基板的栅线的方向。

本实用新型还提供一种显示面板，包括阵列基板，其中，所述阵列基板为本实用新型所提供的上述阵列基板。

优选地，所述显示面板还包括与所述阵列基板相对设置的对盒基板。

优选地，所述对盒基板上设置有彩膜。

在本实用新型中，通过测量通孔之间的测试图案的宽度来反应所述像素电极的宽度和/或所述数据线的宽度，与现有技术相比，本实用新型中所提供的测试层在构图工艺中所受到工艺波动的影响较小，从而减少像素电极和数据线的测量值与真实值的差异，提高测试效果，进而提高产品质量。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1所示的是现有的阵列基板显示区的结构示意图；

图2所示的是现有技术中测量像素电极宽度的测试图形的示意图；

图3所示的是现有技术中测量数据线宽度的测试图形的示意图；

图4所示的是本实用新型中所提供的测试图形的示意图。

附图标记说明

1：阻光导电层；2：测试用像素电极；3：测试用数据线；4：测试层；5：通孔。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

本实用新型提供一种阵列基板，包括设置在显示区域周边的阻光导电层1以及设置在该阻光导电层1的上方的测试层4，如图4所示，测试层4上可以设置有多个沿测试层4厚度方向贯穿测试层4的通孔5，所述阵列基板包括与像素电极同层设置的测试层4和/或与数据线同层设置的测试层4，其中，在与像素电极同层设置的测试层4中，相邻两个通孔5之间的距离（如图4中所标识的c）与相邻两个所述像素电极之间的距离（如图1中所标识的a）一致；在与数据线同层设置的测试层4中，相邻两个通孔5之间的距离（如图4中所标识的c）与所述数据线宽度（如图1中所标识的b）一致。

在本实用新型中，在测量时，阻光导电层可以遮挡来自背光源的光线，从而可以清楚地观测到通孔5的边界。