[实用新型]薄膜表面改质装置及偏光膜制造装置有效
申请号: | 201420056887.1 | 申请日: | 2014-01-29 |
公开(公告)号: | CN203894429U | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 西乡公史;原宽高;祝部学 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 岳雪兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 表面 装置 偏光 制造 | ||
1.一种薄膜表面改质装置,其特征在于,包括:
处理辊,其与地面电连接,用于输送薄膜;
放电电极,其放电端与所述处理辊的表面相对设置;
供电部,其与所述放电电极电连接,用于向所述放电电极通电,从而在该放电电极与所述处理辊之间发生电晕放电。
2.如权利要求1所述的薄膜表面改质装置,其特征在于,
所述放电电极设有多个,多个所述放电电极在所述处理辊的周向上间隔配置。
3.如权利要求2所述的薄膜表面改质装置,其特征在于,
在所述处理辊的周向上彼此相邻设置的放电电极的放电端之间的距离为50mm~400mm。
4.如权利要求1所述的薄膜表面改质装置,其特征在于,
所述放电电极的放电端与所述处理辊的表面之间的距离为1mm~3mm。
5.如权利要求1所述的薄膜表面改质装置,其特征在于,
所述放电电极的放电端的截面形成为波浪形状、圆弧形状或楔形形状。
6.如权利要求1所述的薄膜表面改质装置,其特征在于,
所述放电电极由不锈钢或或铝制成。
7.如权利要求1所述的薄膜表面改质装置,其特征在于,
所述处理辊包括与地面电连接的金属制的辊芯和嵌套在该辊芯的外周面上的衬套,所述衬套由硅橡胶或陶瓷制成。
8.如权利要求1所述的薄膜表面改质装置,其特征在于,还包括:
处理室,其容纳所述处理辊和所述放电电极,设有排气口、供待处理的薄膜进入的薄膜入口和供处理完的薄膜送出的薄膜出口;
排气机,其与所述排气口连通。
9.一种偏光膜制造装置,包括供给原料膜的原料膜供给部、将来自该原料膜供给部的原料膜制造成偏光片的偏光片制造部、供给保护膜的保护膜供给部、对来自该保护膜供给部的保护膜的表面进行表面改质处理的保护膜处理部、将所述保护膜的经过所述表面改质处理的表面贴合在所述偏光片的 表面上从而形成偏光膜的贴合处理部和卷取该偏光膜的偏光膜卷取部,
其特征在于,所述保护膜处理部具有如权利要求1至8中任一项所述的薄膜表面改质装置,利用该薄膜表面改质装置进行所述表面改质处理。
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