[实用新型]用于服装处理用具的处理板及服装处理用具有效

专利信息
申请号: 201420062272.X 申请日: 2014-02-07
公开(公告)号: CN204234258U 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 唐洁聪;Y·韦尔斯特拉;Y·L·李;S·M·F·库;赵丽红 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: B05C1/06 分类号: B05C1/06;B05D7/24;B05D3/02;C09D1/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰艾恩*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 服装 处理 用具
【权利要求书】:

1.一种用于服装处理用具(100)的处理板,所述处理板具有接触表面,在使用中所述接触表面在正被处理的服装(30)上滑动,其中所述接触表面设置有涂层(20),所述涂层包括金属氧化物,所述金属氧化物是从由氧化钛、氧化锆、氧化铪、氧化钪、氧化钇或其混合物或组合组成的组中选择的滑动材料。 

2.根据权利要求1所述的处理板,其中所述涂层(20)是溶胶-凝胶涂层。 

3.根据权利要求1-2中任一项所述的处理板,其中所述涂层(20)为滑动材料,大体上由(i)氧化钛、氧化锆、或氧化钛和氧化锆的混合物或组合组成,或者由(ii)氧化钛、氧化钇或氧化钛和氧化钇的混合物或组合组成。 

4.根据权利要求1-2中任一项所述的处理板,其中所述涂层(20)的厚度小于1μm。 

5.根据权利要求1-2中任一项所述的处理板,其中所述涂层(20)的厚度小于400nm。 

6.根据权利要求1-2中任一项所述的处理板,所述处理板(10)包括基底,所述基底具有所述涂层(20)被应用到其上的所述接触表面,其中所述基底是金属、釉质、有机聚合物、有机硅酸盐或硅酸盐基底。 

7.根据权利要求1-2中任一项所述的处理板,其中所述处理板(10)包括金属基底,并且其中所述处理板进一步包括在所述金属基底和所述涂层(20)之间布置的至少一层,所述层是金属组合物、釉质、有机聚合物、有机硅酸盐或硅酸盐层。 

8.一种服装处理用具(100),包括根据权利要求1-7中任一项所述的处理板(10) 。

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