[实用新型]一种真空砖机有效
申请号: | 201420063424.8 | 申请日: | 2014-02-12 |
公开(公告)号: | CN203712835U | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 李松林;李用 | 申请(专利权)人: | 贵州龙里创奇装备制造有限公司 |
主分类号: | B28B3/22 | 分类号: | B28B3/22 |
代理公司: | 北京尚德技研知识产权代理事务所(普通合伙) 11378 | 代理人: | 毛肖 |
地址: | 551200 贵州省黔*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种真空砖机,属于砖瓦制造机械领域。
背景技术
CN2936657Y中公开了一种双级真空挤砖机,包括上级进料打泥机构、下级砖胚的挤出成型机构、位于上下两级机构首尾之间的真空箱、以及动力传送机构,进料打泥机构的泥缸是一个半封闭的圆柱型缸体,进料口位于泥缸上端的前段,泥缸内搅拌轴上装有螺旋绞刀。在砖胚挤出成型机构的下级泥缸与出泥头之间设置有一个冷却装置,并且在进料口的下沿一侧设置了一个拨料机构。
该现有技术中还提及,现有真空挤砖机有上下两个泥缸,分为上下两级机构,上一级是进料打泥机构,下一级是砖胚的挤出成型机构,真空箱位于上下两级机构的首尾之间。这种结构的挤砖机简单紧凑,泥料挤出顺畅,是目前比较好的挤砖机。但是,由于这种挤砖机打泥机构的打泥箱上端是敞口的,虽然这样便于进料,可搅拌轴上的打泥刀总是会把约三分之一的泥料挑起翻出打泥箱外,下一级得不到足够的原料,使产率降低,动力损耗也增大;另外,由于泥料在下级泥缸中受到螺旋挤压,并与泥缸的缸壁摩擦产生大量的热量,使得砖胚在挤出时自身的温度就比较高,而这种湿热的砖胚内部空隙较多,并在干燥的过程中极易剪切分层,使得产品的质量和成品率偏低。
上述现有技术虽然针对性的进行了一些改进,然而对于存在的问题解决的效果并不好,尤其是上级进料打泥机构容易堵塞,密封不严,下级泥缸的冷却装置效率很低。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种真空砖机,以减少或避免前面所提到的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型提出了一种真空砖机,包括进料打泥机构、挤出成型机构、位于所述进料打泥机构和挤出成型机构之间的真空箱以及传动机构;所述进料打泥机构包括一个圆筒形的打泥泥缸,所述进料打泥机构的进料口设置于所述打泥泥缸的一侧的上部,所述进料打泥机构的出料口设置于所述打泥泥缸的另一侧的下部,并位于所述真空箱内部,其中,所述打泥泥缸内具有两个平行设置的搅拌轴,每个所述搅拌轴上都装有螺旋绞刀,所述两个平行设置的搅拌轴上的螺旋绞刀呈螺旋方向相反的镜像布置;每个所述搅拌轴上的螺旋绞刀在所述进料口的范围内,由所述进料口到所述出料口方向的螺距逐渐变大,直径也逐渐变大;所述挤出成型机构包括一个挤出泥缸,所述挤出泥缸设置成为双层结构的圆筒状,在双层结构的中间充满有冷却水。
本实用新型的真空砖机,设置了两个平行的搅拌轴,可以使泥料得到充分的搅拌,从而获得较理想的搅拌效果。每根搅拌轴上,在进料打泥机构的进料口的范围内设置了螺距逐渐变大,直径也逐渐变大的螺旋绞刀,这样设置的好处是可以在进料口的范围内,采用渐进的方式从进料口向出料口方向输送泥料,避免泥料输送不均匀导致泥料结拱输送不畅,从而防止泥料坍塌造成堵塞损害设备。进一步的,本实用新型的挤出泥缸通过双层结构提供了强制水冷,还可以提供额外的气密效果,从而可以获得更为稳定的真空度,避免真空箱工作时漏气,能够获得更好的制砖效果。
附图说明
以下附图仅旨在于对本实用新型做示意性说明和解释,并不限定本实用新型的范围。其中,
图1显示的是根据本实用新型的一个具体实施例的真空砖机的结构示意图;
图2显示的是根据本实用新型的另一个具体实施例的进料打泥机构的俯视状态示意图。
具体实施方式
为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图说明本实用新型的具体实施方式。其中,相同的部件采用相同的标号。
图1显示的是根据本实用新型的一个具体实施例的真空砖机的结构示意图,如图所示,本实用新型的真空砖机是在现有双级真空挤砖机的基础上进行的改进,相关结构和原理可以参照背景技术部分所述CN2936657Y中的介绍,此处全文引用作为参考,并且对于真空砖机的原理及工作过程不再详细描述,本领域技术人员很容易就能根据该现有技术或者类似文献理解有关真空砖机的基本原理。
如图所示,本实用新型的真空砖机包括进料打泥机构1、挤出成型机构2、位于所述进料打泥机构1和挤出成型机构2之间的真空箱3、以及传动机构等。其中,进料打泥机构1包括一个圆筒形的打泥泥缸11,进料打泥机构1的进料口12设置于打泥泥缸11的一侧的上部,进料打泥机构1的出料口13设置于打泥泥缸11的另一侧的下部,并位于所述真空箱3内部。
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