[实用新型]一种基坑支护结构有效

专利信息
申请号: 201420068256.1 申请日: 2014-02-17
公开(公告)号: CN203924071U 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 黄俊;龚成林;刘洪洲;赵光;王善高;张忠宇;徐国平;刘明虎;刘昌鹏;肖军华;戴慧兰;杜岳;黄浩;虞辰杰 申请(专利权)人: 中交公路规划设计院有限公司
主分类号: E02D17/04 分类号: E02D17/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100088 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基坑 支护 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及建筑工程技术领域,尤其涉及一种地下工程的基坑支护结构。

背景技术

随着城市化的不断发展,地下空间的利用越来越被人们重视,基坑工程得到了较大的发展。我国经济发达地区多分布范围较广的软土地层,许多深基坑工程在城市富水、软土环境中进行。由于城市地下管线众多,基坑上方往往存在重要电缆、管线等障碍物穿越而无法动迁,隔断了围护结构的连续性,无法采用常见的地下连续墙施工技术。排桩支护结构可以根据障碍物的位置灵活调整桩间距,从而避开障碍物,但同时会引起桩间距过大以及由于周边地层过于软弱等产生的基坑失稳风险。采用大直径、高强度的旋喷桩加固基坑周边软土,同时,在旋喷桩中施作双排灌注桩、并结合基坑内支撑组成的支护结构,可以较好地起到止水和挡土作用,且能避开障碍物,又节约基坑外施工场地。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种基坑支护结构,以便在复杂软弱地质条件下和复杂障碍物穿越基坑情况下,提供支护效果较好的支护结构。

为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:一种基坑支护结构,包括:包括:旋喷桩和内插于所述旋喷桩中的双排桩结构;其中,所述旋喷桩为形成在基坑周边土体上的高强水泥土桩体,多根所述旋喷桩相互搭接形成加固区;所述双排桩结构包括第一排灌注桩、第二排灌注桩和连接第一排灌注桩和第二排灌注桩顶部的连梁,均为钢筋混凝土结构。

其中,所述第一排灌注桩和第二排灌注桩径向分布在基坑周边,所述第一排灌注桩靠近基坑,所述第二排灌注桩远离基坑。

其中,所述双排桩结构中第一排灌注桩和第二排灌注桩的排距可调。

其中,所述第一排灌注桩和第二排灌注桩中灌注桩间的间距可调。

其中,所述基坑支护结构还包括基坑支撑,其支撑在基坑内部相对的第一排灌注桩之间,所述第一排灌注桩靠近基坑。

其中,所述基坑支护结构还包括围檩,其用于连接第一排灌注桩和基坑支撑。

其中,所述基坑支撑包括多层,其层数根据基坑深度而不同。

其中,所述基坑支护结构适于有障碍物穿越的范围内,所述双排桩位于障碍物之间。

其中,所述基坑支护结构位于其他类型的支护结构所断开的位置处。

其中,所述其它类型的支护结构包括地下连续墙。

本实用新型的优点在于:本实用新型是解决复杂软弱地质条件下和复杂障碍物穿越基坑情况下的一种围护方案,适用于地层及应用范围:富水、软土地质环境,基坑上方存在重要电缆、管线等障碍物穿越而无法动迁,基坑外有5m左右的施工空间。大直径高压旋喷桩相互搭接有效止水,且与灌注桩一起控制坑外土体的水平位移;双排灌注桩顶端通过连梁连接固定形成双排桩结构,双排桩结构具有更大的侧向刚度,可以明显减小基坑的侧向变形;当有电缆等障碍物穿过基坑时,排桩可以灵活调整间距,避开障碍物;同时,在大直径旋喷桩中施作灌注桩组成的支护结构,节约坑外施工场地。

附图说明

图1为本实用新型中基坑支护结构的立面结构示意图;

图2为本实用新型中基坑支护结构的横截面示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本实用新型作进一步的详细说明。

图1示出了本实用新型提出的一种基坑支护结构的立面结构示意图。如图1所示,该支护结构包括:基坑1周边土体7上形成的旋喷桩和内插于所述旋喷桩内的双排灌注桩。所述旋喷桩相互搭接形成加固区4、5,所述加固区是通过在基坑1周边土层中用旋喷搅拌法将水泥浆和土层充分混合形成的高强水泥土桩体,其用于加固基坑周边的土体和形成止水帷幕,并与双排灌注桩一起控制坑外土体的水平位移。所述双排灌注桩由第一排灌注桩2和第二排灌注桩3构成,它们径向分布在基坑周边的加固区4、5中,即第一排灌注桩2和第二排灌注桩3在形成加固区4和5的旋喷桩内施工制作,其由钢筋混凝土制成。

所述第一排灌注桩2和第二排灌注桩3的顶端通过连梁6连接固定形成双排桩结构,连梁6为钢筋混凝土结构。所述双排桩结构分布在基坑1周边的加固区内部,以形成所述基坑的支护结构。所述双排桩结构在遇到复杂障碍物穿越基坑上方时,可以灵活调整桩间距布置,避开障碍物。

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