[实用新型]一种处理有机胺类废气的装置系统有效

专利信息
申请号: 201420072882.8 申请日: 2014-02-19
公开(公告)号: CN203816481U 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 徐炎华;于鹏 申请(专利权)人: 南京工业大学;南京工大环境科技有限公司
主分类号: B01D53/75 分类号: B01D53/75;B01D53/54
代理公司: 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人: 徐冬涛;傅婷婷
地址: 211816 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 处理 有机 废气 装置 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型属于废气处理领域,涉及一种处理有机胺类废气的装置系统。 

背景技术

化工生产过程中会产生大量恶臭刺激性废气,例如三甲胺、三乙胺、甲酰胺等典型有机胺类物质,排放量大、嗅域值低,还会抑制生物体内大分子物质的合成,对动物晶胚有致畸作用,不仅对环境造成严重的恶臭污染,更严重影响现场操作人员与周围的居民,许多企业常因此类问题遭到举报,被环保部门视为监管监察的重点,部分甚至被停产整顿,严重制约了化工行业的健康发展。因此,有机胺类物质已是恶臭污染控制的主要对象之一。 

目前,常采用物理化学方法处理恶臭物质,主要有:吸附法、吸收法、生物法、热破坏法、等离子体技术等。 

吸附法常用与处理恶臭气体,具有能耗低、操作简单、净化效率高、技术工艺成熟等优点,但活性炭对非极性化合物有较好的吸附效果,对极性物质(如甲胺类物质)吸附性能较差,存在吸附容量低、穿透时间短、更换周期频繁、运行成本高等问题;吸收法处理恶臭气体有一定的效果,但不适用于污染物间断排放、污染负荷变化大情况,此外吸收后的废液易造成二次污染;生物法脱臭具有设备简单、能耗低、产生二次污染的可能性小等优点,但是存在占地面积大,操作复杂,不耐污染负荷变化冲击等缺点;热破坏法是比较彻底的处理手段,但是运行成本昂贵,鲜有企业能够承受,同时存在设备安全性的问题;等离子技术是比较新型的处理技术,但存在投资大、安全性低、腐蚀性强等缺点。 

所以,处理能力强,效果好,且操作简单,安全性高,一次性投资小的处理方法及装置是未来恶臭废气处理技术的发展方向。 

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术的上述不足,提供一种处理有机胺类废气的装置系统。 

本实用新型的目的可通过如下技术方案实现: 

一种应用于本实用新型所述的有机胺类废气处理方法的装置系统,包括:风机、加药箱、液封缓冲罐、排液口、汽水分离器、配气瓶、能量发生器、反应器、气体流量计、干燥器、深 度氧化床以及连接上述各装置的管道;其中风机出风口通过废气管道与废气液封缓冲罐相连,废气管道一端浸没在废气液封缓冲罐的液面之下,废气液封缓冲罐顶部设有出气管道与汽水分离器连接,汽水分离器与配气瓶管道连接,汽水分离器与配气瓶设有管道连接反应器的进气口,反应器与能量发生器相连,在反应器的内胆产生高能场;反应器通过设有气体流量计的管道与干燥器相连,干燥器的出气口与深度氧化床相连。 

所述的反应器为双层结构,外壁为金属网,内胆为两端敞口的反应腔体,中间贯穿与能量发生器相连的次针状金属线。 

所述的装置中,风机的风量1~50m3/h变频风机;能量发生器为外置式,能量发生器的功率连续可调,功率范围为1~3kw。液封缓冲罐的材质为不锈钢、内衬不锈钢或玻璃钢;反应器的材质为的陶瓷或刚玉腔体,有效长度20~200cm;深度氧化床为多层金属改性的炭基多孔填料,优选为1‐10层,每层厚度2.5cm。 

工作状态描述: 

A.废气经风机进入液封缓冲罐进行吸收处理;液封缓冲罐中的有机酸吸收饱和后可由液封缓冲罐底部排出; 

B.吸收处理后的废气经汽水分离器汽水分离后通过配气瓶进行混合配气,配气后的混合气体后进入反应器,进气流量为0.6~6m3/h; 

C.混合气体进入反应器后打开能量发生器,调节功率1~3kw进行反应,通过气体流量器调节流量,具体为2.5~25m3/h,保证气体在反应器中有一定的停留时间; 

D.处理后的废气经干燥器干燥后进入深度氧化床经进一步降解后排出。 

有益效果: 

1、本实用新型采用的能量发生器与反应器耦合,能量发生器能加剧多种化合物的分子活性,不仅可以使污染物化学键发生断裂,同时能够激发空气产生大量·O、·OH以及O3等,可以实现间接氧化污染物分子。 

2、前置的液封缓冲罐,不仅起到缓冲气体的作用,具有抗冲击性好的优势,还能增加空气湿度,有利于增加反应器中自由基密度,可提高反应效率。 

3、耦合的后置深度氧化床可以进一步利用·O、·OH以及O3,延长停留时间,提高去除效率,且适用寿命长。 

4、反应器结构紧凑,操作简单,通过控制流量和能量大小,即可控制反应的效果。 

附图说明

图1为含有机胺类废气的处理装置的示意图 

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