[实用新型]一种卷绕镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种卷绕镀膜设备，尤其涉及可对基材进行标记的镀膜设备。

背景技术

卷绕镀膜机主要用于在柔性基体表面镀制膜层，使得膜层具有功能性和/或装饰性。

功能性是指在柔性基材表面镀制半导体膜、金属膜、绝缘膜、光学多层膜等薄膜，不仅可以提高其表面硬度，力学强度和耐水性能，还能增加耐油性和耐溶剂性，提高老化性，使其具有导电性，反射性，吸收性，绝缘性，阻隔性及防止静电性，例如：用于制造触摸屏，电容器等。

图1为目前一种卷绕镀膜机示意图，其包括放卷机构1、收卷机构2、真空镀膜室3、镀膜鼓4及多个腔室隔板5，镀膜鼓4位于真空镀膜室3内，用于卷绕基材S，基材S由放卷机构1进入真空镀膜室3进行镀膜后送至收卷机构2。其中，多个腔室隔板5位于真空镀膜室3，自真空镀膜室3的内壁向镀膜鼓4延伸，将真空镀膜室3分割成多个镀膜腔室。不同镀膜腔室内放置不同靶材。例如，在ITO film镀膜过程中，不同腔室内放置如：硅靶材，氧化铌靶材，ITO靶材，TiO2靶材等。镀膜过程中，由于不同膜层的参数改变，如改变气体氛围（氩气，氧气，氮气等），靶材功率等，需对膜层做标记，以区分前后不同参数所镀制的膜层。现有的方式为硅靶失氧法。采用该种方式做标记时，将硅靶所在的镀膜腔室内的氧气流量手动调整为零，功率加大，在基材S表面沉积暗黑色的膜层，以区分前后不同参数所镀制的膜层；待参数改变完后，硅靶氧气恢复至正常，此时硅靶不能瞬时调整为正常功率，恢复时间一般为30s-60s之间。然而在这段时间内基材仍在被卷动，造成较长一段基材上形成非正常的膜层而不可用。因此，采用上述方式做标记基材浪费严重，镀膜速度越快，浪费材料越严重，同时也降低了产品的良率和镀膜效率。

实用新型内容

基于上述问题，本实用新型提供了一种卷绕镀膜设备，以避免基材浪费，提高镀膜质量和镀膜效率。

为达成上述目的，本实用新型提供一种卷绕镀膜设备，包括：真空镀膜室；镀膜鼓，其位于真空镀膜室内，用于卷绕基材；及多个腔室隔板，其与真空镀膜室的内壁连接，并自真空镀膜室的内壁向镀膜鼓延伸，将真空镀膜室分割成多个镀膜腔室，其特征在于，镀膜设备还包括标记机构，标记机构包括：多个安装部，与各腔室隔板的邻近镀膜鼓的一端连接，且与镀膜鼓的外壁之间存在间隙；及打标部，设置在各个安装部，用于在所对应的镀膜鼓上的基材形成标记。

根据上述实施方式，标记机构还包括连接部，其将安装部连接于腔室隔板。

根据上述实施方式，安装部通过连接部高度可调节的连接于腔室隔板，使得安装部与镀膜鼓的外壁之间的间隙距离能够调节。

根据上述实施方式，连接部包括一对连接板，每一连接板包括一第一连接件和自第一连接件的侧缘垂直延伸的第二连接件，该对连接板的第二连接件平行对置，且第二连接件之间形成一安装狭槽，安装狭槽的宽度等于腔室隔板的厚度，腔室隔板插入该安装狭槽并固定于第二连接件，且腔室隔板插入该安装狭槽的深度能够调节，使得安装部与镀膜鼓的外壁之间的间隙距离能够调节。

根据上述实施方式，安装部的邻近镀膜鼓的表面具有弧度。

根据上述实施方式，安装部的该表面的曲率与镀膜鼓的曲率相同。

根据上述实施方式，安装部与镀膜鼓的外壁之间的间隙为1-2mm。

根据上述实施方式，安装部上设有安装孔，打标部嵌设于安装孔内。

根据上述实施方式，安装部上设有至少两个安装孔，所述安装孔的连线与镀膜鼓的轴线平行，邻近安装部两端的安装孔之间的距离小于基材的宽幅。

根据上述实施方式，安装孔在安装部上的位置与腔室隔板对齐。

根据上述实施方式，打标部为激光器，打标部发出的激光束垂直于所对应的镀膜鼓的切面。

根据上述实施方式，激光器为半导体激光器，选用功率小于5w脉冲式激光器。

本实用新型相较于现有技术的有益效果在于：本实用新型通过在腔室隔板上设置标记机构，在基材上进行打标，以区分镀膜工艺中不同参数所镀制的膜层。与传统的硅靶失氧法相比，本实用新型无需调节腔室内靶材参数，可快速对基材做标记，从而提高镀膜效率、产品的良率。并且，由于打标部安装在腔室隔板上，相比于传统的硅靶失氧法在腔室内对基材做标记，本实用新型可大幅减少基材的浪费。

附图说明

图1为现有的卷绕镀膜机的示意图。

图2为本实用新型的卷绕镀膜设备的示意图。

图3为图2中III部分的局部放大图。

图4为卷绕镀膜设备的标记机构的示意图。