[实用新型]一种负离子净化机有效

专利信息
申请号: 201420097035.7 申请日: 2014-03-04
公开(公告)号: CN203771570U 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 欧阳花玲 申请(专利权)人: 欧阳花玲
主分类号: F24F1/02 分类号: F24F1/02;A61L9/22
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 代理人: 邹常友
地址: 411400 湖南省湘*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 负离子 净化
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种负离子净化机。

背景技术

传统的负离子净化机需要过滤网,过滤网用一段时间后要更换,浪费资源。为了克服上述缺陷,我们研制了一种改进的负离子净化机。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种负离子净化机,有效解决传统的负离子净化机需要过滤网,导致的过滤网用一段时间后要更换、浪费资源的问题。

本实用新型要解决其技术问题所采用的技术方案为:一种负离子净化机,包括上罩1、下壳2、位于上罩1与下壳之间的上壳3,所述上罩1与上壳2之间设有电机,电机轴伸进上壳3与下壳2之间,电机轴与鼓风轮4连接,所述下壳2与盛水杯5卡接,所述上罩1设有出风口11和进风口12,所述上壳对应出风口11处设有负离子产生装置31,其特征在于:所述下壳2中部设有通风孔21,通风孔21外设有通风槽22,所述下壳设有导风条23,该导风条将通风孔21和通风槽22隔离并将通风孔21和下壳2对应出风口11处连通,所述鼓风轮4底部与吸水管连接,该吸水管6上部设有喷水孔,所述上壳3还设有紫外线灯珠32。

所述紫外线灯珠32设于上壳3内对应进风口12处。

本实用新型的有益效果是:

本实用新型采用了上述的技术方案,该负离子净化机的上罩设有出风口和进风口,所述上壳对应出风口处设有负离子产生装置,下壳中部设有通风孔,通风孔外设有通风槽,所述下壳设有导风条,该导风条将通风孔和通风槽隔离并将通风孔和下壳对应出风口处连通,所述鼓风轮底部与吸水管连接,该吸水管上部设有喷水孔,所述上壳还设有紫外线灯珠,使用时,鼓风轮与吸水管一起高速旋转,吸水管把水吸起并向外喷出雾化,空气在出风口处的负离子产生装置周围产生负离子,鼓风轮把空气从进风口途经通风槽带进盛水杯内并打入水中,水把空气中的颗粒、甲醛等有害物质溶解,带负离子的清新空气与水雾融合形成具高氧含量的负离子风经过紫外线灯珠杀菌后从出风口吹出,整个装置集杀菌、净化、除尘、加湿的功效,无需过滤网,清洗方便。这样能有效解决传统的负离子净化机需要过滤网,导致的过滤网用一段时间后要更换、浪费资源的问题,并且本实用新型具有结构简单、使用方便、美观耐用的特点。

附图说明

图1为本实用新型的爆炸图。

图2为本实用新型的下壳的立体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型及其具体实施方式作进一步详细说明:

参见图1和图2,本实用新型包括上罩1、下壳2、位于上罩1与下壳之间的上壳3,所述上罩1与上壳2之间设有电机,电机轴伸进上壳3与下壳2之间,电机轴与鼓风轮4连接,所述下壳2与盛水杯5卡接,所述上罩1设有出风口11和进风口12,所述上壳对应出风口11处设有负离子产生装置31,其特征在于:所述下壳2中部设有通风孔21,通风孔21外设有通风槽22,所述下壳设有导风条23,该导风条将通风孔21和通风槽22隔离并将通风孔21和下壳2对应出风口11处连通,所述鼓风轮4底部与吸水管连接,该吸水管6上部设有喷水孔,所述上壳3还设有紫外线灯珠32。

所述紫外线灯珠32设于上壳3内对应进风口12处。

本实用新型中的上罩1设有出风口11和进风口12,所述上壳对应出风口11处设有负离子产生装置31,下壳2中部设有通风孔21,通风孔21外设有通风槽22,所述下壳设有导风条23,该导风条将通风孔21和通风槽22隔离并将通风孔21和下壳2对应出风口11处连通,所述鼓风轮4底部与吸水管连接,该吸水管6上部设有喷水孔,所述上壳3还设有紫外线灯珠32,使用时,鼓风轮4与吸水管6一起高速旋转,吸水管6把水吸起并向外喷出雾化,空气在出风口11处的负离子产生装置31周围产生负离子,鼓风轮4把空气从进风口12途经通风槽22带进盛水杯5内并打入水中,水把空气中的颗粒、甲醛等有害物质溶解,带负离子的清新空气与水雾融合形成具高氧含量的负离子风经过紫外线灯珠32杀菌后从出风口11吹出,整个装置集杀菌、净化、除尘、加湿的功效,无需过滤网,清洗方便。

所述紫外线灯珠32设于上壳3内对应进风口12处。

这样的结构简单,使用方便,美观耐用,能有效解决传统的负离子净化机需要过滤网,导致的过滤网用一段时间后要更换、浪费资源的问题。

通过上述的结构和原理的描述,所属技术领域的技术人员应当理解,本实用新型不局限于上述的具体实施方式,在本实用新型基础上采用本领域公知技术的改进和替代均落在本实用新型的保护范围,应由各权利要求限定。

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