[实用新型]一种激光沉积与原位退火系统

权利要求书

1.一种激光沉积与原位退火系统，包括：

真空腔体；

第一光学组件；

靶材承载装置和基板承载装置，设置在所述真空腔体内；

所述真空腔体的侧壁上具有第一激光入射窗口，在薄膜沉积工艺中，激光经过第一光学组件后，通过第一激光入射窗口照射到固定在所述靶材承载装置上的靶材上，其特征在于，

所述真空腔体的侧壁上还具有第二激光入射窗口；

所述系统还包括第二光学组件，在薄膜退火工艺中，激光经过第二光学组件后，通过第二激光入射窗口照射到固定在所述基板承载装置上的基板上。

2.根据权利要求1所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述系统还包括一激光器和一半透半反镜；

所述激光器发出的激光照射到所述半透半反镜上，透过所述半透半反镜的激光经过第一光学组件后，通过第一激光入射窗口照射到固定在所述靶材承载装置上的靶材上，被所述半透半反镜反射的激光经过第二光学组件后，通过第二激光入射窗口照射到固定在所述基板承载装置上的基板上。

3.根据权利要求2所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述第一光学组件包括第一反射镜和第一聚焦透镜，透过所述半透半反镜的激光经所述第一反射镜反射至所述第一聚焦透镜，再经过所述第一聚焦透镜的聚焦后，通过第一激光入射窗口照射到固定在所述靶材承载装置上的靶材上。

4.根据权利要求2所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述第二光学组件包括光阑、第二聚焦透镜和第二反射镜，被所述半透半反镜反射的激光经所述光阑整形后，经过所述第二聚焦透镜聚焦至第二反射镜，再经过第二反射镜的反射后，通过第二激光入射窗口照射到固定在所述基板承载装置上的基板上。

5.根据权利要求2所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述激光器为准分子激光器、固体激光器或半导体激光器。

6.根据权利要求1-5任一项所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述系统还包括气路，用于向所述真空腔体内输入气体。

7.根据权利要求6所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述气体为氧气、氮气、惰性气体、氨气或笑气。

8.根据权利要求1-5任一项所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述基板承载装置包括：

基板承载台，设置在所述真空腔体内，用于固定基板；

第一旋转控制装置，设置在所述真空腔体外，通过转轴与所述基板承载台固定连接，用于控制所述基板承载台旋转。

9.根据权利要求1-5任一项所述的激光沉积与原位退火系统，其特征在于，所述靶材承载装置包括：

靶材承载台，设置在所述真空腔体内，用于固定靶材；

第二旋转控制装置，设置在所述真空腔体外，通过转轴与所述靶材承载台固定连接，用于控制所述靶材承载台旋转。