[实用新型]反应釜

说明书

技术领域

本实用新型涉及化工设备领域，具体涉及一种制备无水氟化氢用的反应釜。

背景技术

在化工领域，提纯除杂是产品生产过程中常见的工艺步骤之一，如无水氟化氢（简称AHF）的制备，现有技术主要采用萤石和硫酸加热反应后生成，粗制的无水氟化氢中含有氟磺酸、四氟化硅、二氧化硫、水、以及砷类化合物等杂质，目前提纯无水氟化氢的常规方法是在无水氟化氢加入高锰酸钾、过氧化氢等氧化剂，使其中的杂质生成易挥发的气态排出，或者生成固态杂质除去，具体是向反应釜中加入粗制的AHF和氧化剂，通过反应釜中布置的加热管进行氧化反应，生成的气体杂质从反应釜的排气口处排出，而固体杂质沉于反应釜底，待反应完全后，纯化后的无水氟化氢从位于反应釜底部的液下泵的进口端输送至料罐中储存，液下泵的进口端设置有滤网以阻止固体杂质一同被送入料罐，上述现有技术存在的问题是：在生产过程中，液下泵的进口端处的轴承易沉积杂质造成轴承磨损或者卡死，导致液下泵维修频繁，影响反应釜的正常使用和生产进度，因此及时、有效地清除固体杂质对反应釜来说具体重要意义。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种反应釜，该反应釜能够及时、快速地清除氧化无水氟化氢后产生的固体杂质。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种反应釜，包括罐体和液下泵，液下泵的进口端位于罐体的底部内壁处，其特征在于：所述罐体的底部内壁处、位于液下泵的进口端的位置所在设有供罐体内的固体杂质排出的第一排泄孔，所述第一排泄孔处设置有第一排泄阀。

采用以上技术方案产生的有益效果在于：在罐体的底部内壁处、位于液下泵的进口端的位置所在设置第一排卸孔，这样罐体在使用时水平布置，当打开第一排泄阀时，沉淀在罐体底部且靠近液下泵的进口端处的杂质就自然从第一排泄孔处排出，如此罐体内的杂质得以顺利及时清理，避免了杂质沉积在液下泵的进口端的轴承处影响液下泵的正常工作，降低了液下泵的维修频率，进而提高生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1的A-A向剖视图。

具体实施方式

一种反应釜，包括罐体10和液下泵20，液下泵20的进口端21位于罐体10的底部内壁处，所述罐体10的底部内壁处、位于液下泵20的进口端21的位置所在设有供罐体10内的固体杂质排出的第一排泄孔11，所述第一排泄孔11处设置有第一排泄阀，如图1和2所示，实际应用时，针对无水氟化氢的提纯除杂，先是将罐体10水平布置，然后向罐体10内加入粗制的无水氟化氢和氧化剂，然后通过加热管40的加热作用促进无水氟化氢和氧化剂发生氧化反应生成气态和固态杂质，所述加热管40可以通过隔板50加以支撑，其中氧化反应生成的气态杂质直接从罐体10的排气口处排放，固态杂质则沉淀至罐体10的底部，当打开第一排泄阀时，沉淀在罐体10底部且靠近液下泵20的进口端21处的杂质就自然从第一排泄孔11排出，从而避免了杂质沉积在液下泵20的进口端21的轴承处影响液下泵20的正常工作，与现有技术相比，采用本实用新型的技术方案可以有效降低液下泵20的维修频率，从而保证生产的连续性，生产效率得到显著提高。

作为进一步的优选方案：如图1所示，所述罐体10的底部内壁处设置有凹槽12，凹槽12的凹腔位于罐体10的底部的下方，所述液下泵20的进口端21的端面延伸至凹槽12的槽腔内，第一排泄孔11位于凹槽12的槽底处，在罐体10的底部内壁处设置凹槽12，这样待反应釜中的混合物反应完全后液下泵20将液体抽送至料罐时，罐体10底部的少量液体可以流至凹槽12内，从而方便液下泵20将液体抽送完全，提高液体的收率，不仅如此，在凹槽12的槽底处设置第一排泄孔11，这样有利于杂质集中落入凹槽12内排出。

进一步的，所述罐体10的底部与水平面呈夹角布置，罐体10的底部内壁处、沿罐体10的长度方向顺延布置有供罐体10内的杂质流向罐体10的低端布置的第二排泄孔13处的通道30，第二排泄孔13处设置有第二排泄阀，如图2所示，所述罐体10只要在水平面上略为倾斜，具体倾斜角度在5°左右即可，这样未落入凹槽12内的杂质沿着通道30从罐体10底部的高端流向低端设置的第二排泄孔13处进行排放，使得罐体10内的杂质得以有效、及时地清理。