[实用新型]一种晶片清洗机

权利要求书

1.一种晶片清洗机，包括架体（1）、至少一个清洗槽（7），所述清洗槽（7）安装在架体（1）上，其特征在于：清洗槽（7）上活动连接有清洗装置，所述清洗装置包括清洗装置本体（21），清洗装置本体（21）上设有旋转轴（11），旋转轴（11）上固定有清洗滚筒（12），旋转轴（11）与驱动装置相连，通过驱动装置实现旋转轴（11）沿其轴心转动，所述清洗滚筒（12）上设有供清洗液流通的孔。

2.如权利要求1所述的一种晶片清洗机，其特征在于：清洗装置本体（21）上设有横杆（8）；清洗槽（7）上设有定位结构，所述横杆（8）通过定位结构连接在清洗槽（7）上。

3.如权利要求2所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述定位结构为位于操作平台（20）上的清洗槽顶面的一组相对边上的定位板（2），定位板（2）上设有凹槽，通过将横杆（8）的两端卡入所述凹槽实现清洗装置与清洗槽（7）的活动连接。

4.如权利要求3所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述定位板（2）上还设有用于进一步固定横杆（8）的锁定板（3）。

5.如权利要求2到4任意一权利要求所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述驱动装置包括驱动电机（6），所述驱动电机（6）设置在架体（1）上；驱动电机（6）的输出轴上设有动力输出轮（14），旋转轴的前端设有转动轮（13），所述动力输出轮（12）通过传动装置与转动轮（13）相连。

6.如权利要求5所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述清洗装置本体包括前立板（16）、后立板（17）、左立板（15）、右立板（18），所述前立板（16）、右立板（18）、后立板（17）、左立板（15）首尾相连，前立板（16）与后立板（17）相互平行，左立板（15）与右立板（18）相互平行，前立板（16）与左立板（15）相互垂直；前立板（16）、后立板（17）的高度小于左立板（15）、右立板（18）的高度；所述横杆（8）有两根，横杆（8）之间相互平行；横杆（8）穿过左立板（15）、右立板（18）；所述左立板（15）、右立板（18）之间通过滚动轴承连接有旋转轴（11），所述旋转轴（11）与横杆（8）平行，所述旋转轴（11）位于横杆（8）的下方。

7.如权利要求6所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述转动轮（13）位于旋转轴（11）上紧贴右立板（18）的左侧面的位置上，所述转动轮（13）的外侧面上设有齿；所述右立板（18）上设有穿过右立板（18）的滚动轴承，滚动轴承上固定有传动轴（19），所述传动轴（19）平行于旋转轴（11）；所述传动轴（19）的两端固定有传动轮（10，9），位于传动轴（19）左端的传动轮（9）上设有齿并与转动轮（13）上的齿啮合，位于传动轴（19）右端的传动轮（10）与驱动电机（6）上的动力输出轮（14）相连。

8.如权利要求7所述的一种晶片清洗机，其特征在于：动力输出轮（14）的外侧面上设有齿，位于传动轴（19）右端的传动轮（10）的外侧面上也设有与动力输出轮（14）上的齿相适应的齿，动力输出轮（14）上的齿与位于传动轴（19）右端的传动轮（10）上的齿啮合。

9.如权利要求1所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述滚筒（12）上设有可以打开/关闭的门；所述架体（1）上设有抽风装置（5），所述抽风装置的抽风口设在所述清洗槽（7）侧面且高于清洗槽（7）顶面的位置上。

10.如权利要求1所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述清洗槽（7）的底面为与清洗滚筒（12）形状相适应的圆弧面。